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邓钦元

作品数:48 被引量:19H指数:3
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信机械工程理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 44篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇电子电信
  • 3篇机械工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇理学
  • 1篇文化科学

主题

  • 25篇光刻
  • 9篇数值孔径
  • 8篇宽光谱
  • 8篇光谱
  • 7篇调制度
  • 7篇图像
  • 7篇光刻机
  • 7篇干涉图
  • 6篇掩模
  • 6篇莫尔条纹
  • 5篇透镜
  • 5篇纳米光刻
  • 5篇镜头设计
  • 5篇工件台
  • 5篇工作波段
  • 5篇光学
  • 5篇硅片
  • 5篇白光干涉
  • 5篇波段
  • 4篇衍射

机构

  • 48篇中国科学院
  • 3篇中国科学院大...
  • 1篇许昌职业技术...

作者

  • 48篇邓钦元
  • 47篇周毅
  • 43篇胡松
  • 34篇刘俊伯
  • 19篇唐燕
  • 19篇赵立新
  • 15篇邓茜
  • 13篇杨勇
  • 10篇田鹏
  • 9篇李凡星
  • 5篇高洪涛
  • 5篇杨帆
  • 4篇严伟
  • 3篇杨杰
  • 3篇杜婧
  • 2篇陈磊
  • 2篇邸成良
  • 2篇何渝
  • 2篇陈昌龙
  • 2篇张满

传媒

  • 2篇中国激光
  • 1篇光学学报

年份

  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 17篇2017
  • 12篇2016
  • 13篇2015
48 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种大视场大数值孔径紫外光投影光刻物镜镜头
本发明是一种大视场大数值孔径紫外光投影光刻物镜镜头,其光学结构为双方远心结构,物像共轭总长为l=1500mm;其中物方视场为Φ120mm,物方数值孔径NA=0.1。本镜头放大倍率β=-1×,即按原比例成倒像于像面且质量较...
周毅邓钦元司新春刘俊伯胡松杨勇程依光
一种基于调制度的宽光谱微纳结构三维形貌检测方法
本发明是一种基于调制度的宽光谱微纳结构三维形貌检测方法,利用宽光谱照明光源,通过远心光学成像系统,透过Mirau干涉物镜使光线分为两束,一束反射到参考镜面,另一束透射到被测物体表面,最后两束光线发生干涉并通过光电耦合元件...
周毅邓钦元刘俊伯程依光邓茜唐燕杨勇胡松
文献传递
一种宽波段光纤-CCD耦合成像镜头
本发明公开了一种宽波段光纤‑CCD耦合成像镜头,其光学结构为物方远心,物像共轭总长为l=71.5mm;其中物方视场8mm×8mm,物方数值孔径NA=0.063。本镜头放大倍率β=‑0.4×,即缩小2.5倍成倒像于<Ima...
周毅刘俊伯邓钦元司新春胡松高洪涛
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一种点阵激光器的双远心成像系统
本发明公开了一种点阵激光器的双远心成像系统,其采用了双远心、6片结构,工作波长为532nm。该系统光学共轭总长(物方到像方)L=168mm,像方工作距达到58mm。物方、像方远心度均控制在±0.5度以内。数值孔径达到NA...
司新春刘俊伯周毅邓钦元
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一种数字同轴全息显微三维工件台控制系统
本发明公开了一种数字同轴全息显微三维工件台控制系统,三维工件台控制结构由X轴电机(1)、X轴光栅尺(4)、X轴限位开关(7)、Y轴电机(2)、Y轴光栅尺(5)、Y轴限位开关(8)、Z轴电机(3)、Z轴光栅尺(6)和Z轴限...
田鹏杜津杨杰杨帆严伟胡松周毅李凡星姚靖威邓钦元
基于紫外宽光谱自成像制备二维周期阵列的光刻方法及装置
本发明公开了一种基于紫外宽光谱自成像制备二维周期阵列的光刻方法及其装置,其特点是,当采用非单色紫外宽光谱照明周期掩模时,不同光谱和级次的自成像光场分布相互交错叠加,在掩模后一定距离范围内可形成连续可成像区域。本发明利用紫...
邓茜刘俊伯姚靖威程依光司新春邓钦元周毅赵立新胡松
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一种硅片传输手动机械手
本发明公开了一种硅片传输手动机械手,包括机械手座、升降旋转机构、取放片机构;机械手座为整个机械手的基座;升降旋转机构通过内部特殊结构,实现机械手的升降和旋转运动,其通过机械臂中轴与机械手座连接,机械臂中轴可在机械手座上调...
杜婧胡松刘俊伯周毅邓钦元邓茜
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一种适用于投影光刻机的实时调平系统及其调平方法
本发明公开了一种适用于投影光刻机的实时调平系统,由光源经第一、第二准直透镜组成为平行光束,通过投影光阑成为一道狭缝光束。狭缝光束经过第一成像镜组成像到硅片表面。从硅片表面反射的光束经第二、第三、第四成像镜组成像在线阵CC...
姚靖威邓茜刘俊伯程依光司新春邓钦元周毅赵立新胡松
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一种结合相移干涉与垂直扫描干涉的3D形貌恢复方法
本发明公开了一种结合相移干涉与垂直扫描干涉的3D形貌恢复方法,该方法通过上位机程序控制压电陶瓷微步距垂直扫描,每一步扫描采集的干涉图转换为数字信号后存储到计算机。采用极值法判别干涉图中每个像素点光强最大值的位置即为该像素...
谢仲业周毅陈楚怡邓钦元邓茜唐燕赵立新胡松
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一种用于3D微结构制造的流体光刻方法
本发明是一种用于3D微结构制造的流体光刻方法,属于微细加工制造领域。所述流体光刻方法是在一个微流体管道内对连续流动的光刻胶进行曝光,实现了流水线模式的光刻加工。与传统光刻方法相比,流体光刻具有高效率、高精度的加工优势,它...
邓钦元周毅司新春程依光刘俊伯杨勇胡松
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共5页<12345>
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