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苗霈

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：国家纳米科学中心更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 4篇纳米
  • 2篇电子束
  • 2篇偏振
  • 2篇偏振片
  • 2篇清洗工艺
  • 2篇纳米级
  • 2篇金属
  • 2篇金属纳米
  • 2篇刻蚀
  • 2篇刻蚀工艺
  • 2篇刻蚀深度
  • 2篇光刻
  • 2篇光刻胶
  • 2篇反应速率
  • 2篇铝
  • 1篇电子束直写
  • 1篇旋涂
  • 1篇掩膜

机构

  • 4篇国家纳米科学...

作者

  • 4篇宋志伟
  • 4篇董凤良
  • 4篇褚卫国
  • 4篇苗霈
  • 4篇闫兰琴
  • 4篇徐丽华

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2015
  • 2篇2014
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种基于金属纳米光栅的微偏振片阵列的制作方法
本发明涉及一种基于金属纳米光栅的微偏振片阵列的制作方法。所述方法包括以下步骤：（1）在基底上镀一层金属薄膜层并干燥处理；（2）在所述金属薄膜层上旋涂电子束正性光刻胶层并干燥处理；（3）在所述光刻胶层上通过电子束直写曝光并...
董凤良徐丽华苗霈宋志伟闫兰琴褚卫国
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一种纳米级的铝刻蚀方法
一种纳米级的铝刻蚀方法。所述方法包括采用利用0℃以下的低温控制工艺的刻蚀工艺，及清洗工艺。本发明采用的低温刻蚀工艺，能有效地控制反应速率，并且能稳定地控制铝的纳米级关键尺寸、刻蚀深度及侧壁垂直度。
徐丽华董凤良苗霈宋志伟闫兰琴褚卫国
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一种纳米级的铝刻蚀方法
一种纳米级的铝刻蚀方法。所述方法包括采用利用0℃以下的低温控制工艺的刻蚀工艺，及清洗工艺。本发明采用的低温刻蚀工艺，能有效地控制反应速率，并且能稳定地控制铝的纳米级关键尺寸、刻蚀深度及侧壁垂直度。
徐丽华董凤良苗霈宋志伟闫兰琴褚卫国
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一种基于金属纳米光栅的微偏振片阵列的制作方法
本发明涉及一种基于金属纳米光栅的微偏振片阵列的制作方法。所述方法包括以下步骤：（1）在基底上镀一层金属薄膜层并干燥处理；（2）在所述金属薄膜层上旋涂电子束正性光刻胶层并干燥处理；（3）在所述光刻胶层上通过电子束直写曝光并...
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