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张享倩

作品数：6 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇中文专利

主题

  • 3篇底面
  • 3篇声波
  • 3篇声波换能器
  • 3篇气体
  • 3篇腔体
  • 3篇清洗槽
  • 3篇自清洗
  • 3篇污染
  • 3篇污染程度
  • 3篇污染空气
  • 3篇硅片
  • 3篇硅片清洗
  • 3篇出口
  • 2篇气动
  • 2篇气动阀
  • 1篇调压阀
  • 1篇水槽

机构

  • 6篇北京七星华创...

作者

  • 6篇张享倩
  • 6篇姬丹丹
  • 6篇王波雷
  • 6篇李伟
  • 6篇王浩

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 4篇2013
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
一种自清洗腔体
本实用新型涉及硅片清洗领域，尤其涉及一种自清洗腔体，其包括壳体、喷水嘴和排液口。其中，喷水嘴安装在壳体外部，排液口在壳体底部。喷水嘴有上下两排，其上下位置面对面正对。进液软管的一端在喷水嘴内，没有伸入喷水嘴的部分安装有调...
张享倩王波雷姬丹丹李伟王浩
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清洗兆声波换能器的装置
本发明公开了一种清洗兆声波换能器的装置，该装置包括清洗槽、挡流板和隔流板，所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口和液体出口，液体入口侧设置有气体入口，所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔，所述隔...
姬丹丹王波雷李伟张享倩王浩
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一种自清洗腔体
本发明涉及硅片清洗领域，尤其涉及一种自清洗腔体，其包括腔体，自清洗腔体的主体；喷水嘴，清洗时的出水口；排液口，用于排出清洗硅片和腔体时的液体。其中，喷水嘴安装在腔体外部，排液口在腔体下部。喷水嘴有上下两排，其上下位置面对...
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清洗兆声波换能器的装置
本发明公开了一种清洗兆声波换能器的装置，该装置包括清洗槽、挡流板和隔流板，所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口和液体出口，液体入口侧设置有气体入口，所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔，所述隔...
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清洗兆声波换能器的装置
本实用新型公开了一种清洗兆声波换能器的装置，该装置包括清洗槽、挡流板和隔流板，所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口和液体出口，液体入口侧设置有气体入口，所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔，所...
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一种自清洗腔体
本发明涉及硅片清洗领域，尤其涉及一种自清洗腔体，其包括腔体，自清洗腔体的主体；喷水嘴，清洗时的出水口；排液口，用于排出清洗硅片和腔体时的液体。其中，喷水嘴安装在腔体外部，排液口在腔体下部。喷水嘴有上下两排，其上下位置面对...
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