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张晔

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第三十八研究所更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇钛酸
  • 1篇钛酸锶
  • 1篇钛酸锶钡
  • 1篇溅射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇朱启政
  • 1篇解启林
  • 1篇张晔

传媒

  • 1篇科技资讯

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
在钛酸锶钡体材上溅射厚铜膜工艺
2007年
本文采用磁控溅射的方法在钛酸锶钡材料上涂覆金属铜膜。文章详细论述了溅射金属铜膜的工艺参数,并就这些参数对所镀膜层表面质量、附着性能和膜均匀性的影响进行了分析,指出了获得优良的厚铜膜层的实现途径和方法。
张晔解启林朱启政
关键词：钛酸锶钡磁控溅射
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