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成钢

作品数：8 被引量：21H指数：3
供职机构：桂林电子工业学院计算科学与应用数学系更多>>
相关领域：理学金属学及工艺一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇氧化层
  • 2篇抗氧化性能
  • 2篇光学
  • 2篇光学常数
  • 2篇CR
  • 2篇N
  • 2篇R-N
  • 1篇氧化层厚度
  • 1篇阴极
  • 1篇圆偏振
  • 1篇圆偏振光
  • 1篇折射率
  • 1篇偏振
  • 1篇偏振光
  • 1篇椭圆偏振
  • 1篇椭圆偏振光
  • 1篇显微硬度
  • 1篇离子镀
  • 1篇抗氧化
  • 1篇抗氧化性

机构

  • 7篇桂林电子工业...
  • 5篇洛阳工学院
  • 5篇云南大学
  • 1篇赣南师范大学
  • 1篇新疆石油学院

作者

  • 8篇成钢
  • 5篇蒋仕级
  • 5篇陈庆东
  • 2篇曾卫东
  • 2篇陈金全
  • 1篇简国明
  • 1篇顾晓东
  • 1篇张树波

传媒

  • 4篇云南大学学报...
  • 2篇桂林电子工业...
  • 1篇桂林工学院学...
  • 1篇广西物理

年份

  • 1篇2000
  • 2篇1999
  • 5篇1998
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
Cr-N薄膜抗氧化性能的研究被引量：8
2000年
应用空心阴极离子镀膜技术制备的Cr-N薄膜其结构与氮气分压有关。在大气中 ,退火温度为 50 0℃高温条件下 ,Cr-N薄膜的抗氧化性能与N含量有关。由椭偏术测量得出CrN结构的Cr-N薄膜抗氧化性能最佳 ,而Cr2 N结构的Cr-N薄膜抗氧化性能最差 ,且都遵循抛物线氧化规律。
成钢曾卫东陈金全
关键词：抗氧化性能
Cr-N薄膜结构和光学常数的研究被引量：1
1999年
利用空心阴极离子镀（ＨＣＤ） 技术在硅片上镀一层均匀Ｃｒ＿Ｎ 薄膜。用Ｘ 射线衍射技术（ＸＲＤ） 分析了氮气分压对沉积的Ｃｒ＿Ｎ薄膜结构的影响。用椭偏测量术对Ｃｒ＿Ｎ
成钢陈金全曾卫东
关键词：光学常数
用椭圆偏振光方法研究铬薄膜的氧化过程被引量：3
1998年
应用空心阴极离子镀膜技术，制备了纯铬薄膜样品。样品可在不同的温度和时间下进行退火处理。同时应用椭圆偏振测量术的多角入射法对Ｃｒ薄膜氧化层的厚度进行了测定，讨论了退火温度和退火时间对其氧化的影响。
成钢陈庆东蒋仕级
关键词：氧化层厚度
p-群上的Cayley有向的Hamilton有向圈被引量：1
1999年
考虑 Ｗｉｔｔｅ 和 Ｇａｌｌｉａｎ 猜想的特殊情形：有限ｐ 群上的 Ｃａｙｌｅｙ 有向图。应用群论方法及超可解群的理论。证明了有限ｐ群 Ｆ上的连通的 Ｃａｙｌｅｙ 有向图具有 Ｈａｍ ｉｌｔｏｎ 有向圈。
简国明成钢
关键词：P-群超可解群
Cr-N薄膜制备、结构及机械性能的研究被引量：5
1998年
利用空心阴极放电离子镀（ＨＣＤ）技术，在低合金钢（６５Ｍｎ）基底上沉积ＣｒＮ薄膜。
陈庆东成钢蒋仕级
关键词：空心阴极离子镀显微硬度
Cr薄膜氧化过程的AR-XPS研究被引量：4
1998年
应用空心阴极离子镀（ＨＣＤ）技术在玻璃基片上镀一层均匀纯Ｃｒ薄膜．用角分辨ＸＰＳ（ＡＲＸＰＳ）方法对Ｃｒ薄膜在Ｔ＝３００Ｋ，ｐ＝１．３×１０５Ｐａ条件下的氧化层厚度进行测定，数据用最小二乘法处理．Ｃｒ薄膜氧化０．５ｈ后，其氧化层厚度约为０．７５ｎｍ，３０ｄ以后其氧化层厚度约为３．１２ｎｍ．
成钢陈庆东顾晓东蒋仕级
关键词：氧化层
Cr-N薄膜N含量对折射率的影响被引量：1
1998年
应用空心阴极离子镀制备了ＣｒＮ薄膜．用椭圆偏振测量术对ＣｒＮ薄膜进行测量，用求极值的方法得到了它们的光学常数，并对不同含Ｎ２量的ＣｒＮ薄膜光学常数进行了比较．
成钢陈庆东蒋仕级
关键词：光学常数
Cr_2N薄膜抗氧化性能的研究被引量：2
1998年
采用空心阴极放电离子镀（ＨＣＤ）技术，在硅基片上沉积ＣｒＮ薄膜．用Ｘ射线衍射技术（ＸＲＤ）及透射电镜（ＴＥＭ）分析了氮气分压对沉积的ＣｒＮ薄膜结构的影响．用电子探针（ＥＰＭＡ）及椭偏仪研究了Ｃｒ２Ｎ，Ｃｒ薄膜在大气环境里不同温度下的抗氧化性能．
陈庆东成钢张树波蒋仕级
关键词：抗氧化性
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