黄光
- 作品数：10 被引量：65H指数：5
- 供职机构：武汉国家光电实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划创新研究群体科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
- 8相位256×256衍射微透镜的设计与制作被引量：2
- 2002年
- 介绍了衍射微透镜阵列的设计原理与制作工艺方法，在此基础上研制出适用于 ３～５ μｍ波长２５６×２５６ ＰｔＳｉ红外焦平面的 ８相位 ２５６×２５６硅衍射微透镜阵列，阵列中微透镜的孔径为 ５０μｍ，透镜 Ｆ数为 ｆ／２．５，微透镜阵列的中心距为 ５０μｍ。实测衍射效率大于 ８０％，能在红外波前传感器中较好应用。
- 程志军黄光何苗易新建
- 关键词：衍射效率红外焦平面
- 非致冷红外探测器用氧化钒多晶薄膜的制备被引量：14
- 2004年
- 采用离子束溅射镀膜和氧化工艺在Si(110 )和石英衬底上制备了用于非致冷红外探测器阵列热敏材料的混合相氧化钒多晶薄膜 .扫描电子显微镜 (SEM)照片显示 :薄膜表面呈针状晶粒状 ,而且薄膜表面光滑、致密 ,均匀性好 .测试结果表明 :氧化钒薄膜的方块电阻和电阻温度系数 (TCR)在 2 0℃分别为 5 0KΩ和 - 0 .0 2 1K-1.
- 王宏臣易新建陈四海黄光李雄伟
- 关键词：非致冷红外探测器电阻温度系数半导体材料
- 基于VO_x薄膜8元线列非致冷微测辐射热红外探测器的制备被引量：4
- 2001年
- 报道了应用反应离子束溅射以及后退火工艺在石英玻璃以及Si(10 0)衬底上淀积混合相 VOx 多晶薄膜,并且在石英衬底上制备了实验用 8元线列红外探测器。用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分别测试结果显示薄膜为表面光滑、致密且具有针状晶粒的混合相多晶结构,探测器的性能测试结果显示该探测器可以实现 8～
- 陈长虹易新建程祖海张静黄光王宏臣
- 关键词：红外探测器氧化钒
- 亚波长消反射光栅被引量：14
- 2003年
- 为了降低消反射光栅的偏振敏感性 ,将等效介质理论推广到二维亚波长结构 ,对一种特定的矩形柱状结构进行了分析。构造了一种分析方法 ,然后利用光栅结构的有关表达式得到这种二维结构的近似等效系数。并设计了适用于 10 .6 μm红外波段的二维亚波长消反射光栅 ,用二元光学的制作工艺在Si衬底上进行了实验制备。测试结果表明 :对中心波长为 10 .6 μm的红外光 ,这种光栅象单层消反射膜一样 ,具有很好的增透效果。
- 陈四海程志军黄光何苗易新建
- 关键词：物理光学二元光学亚波长结构等效折射率
- 非制冷红外微测辐射热计用热敏电阻研究
- 本文研究了用于微测辐射热计热敏电阻薄膜材料的热敏特性,指出混合相氧化钒多晶薄膜是用作红外探测器热敏电阻的理想材料,并采用一种先进的离子束溅射镀膜工艺在氮化硅薄膜上制备了混合相氧化钒多晶薄膜,测试结果表明:薄膜的方块电阻在...
- 王宏臣易新建黄光肖静陈四海
- 关键词：非制冷微测辐射热计红外探测器热敏材料氧化钒薄膜
- 文献传递
- 磁控溅射纳米VO_2(B相)热敏薄膜的制备
- 2012年
- 利用磁控反应溅射镀膜方法在低温(250℃)条件下制备了主要成分为B相亚稳态二氧化钒(VO2)的薄膜材料。电学性能测试表明:室温下该薄膜的方块电阻为50kΩ左右,电阻温度系数为-2.4%/K,可以作为非致冷红外微测热辐射热计的热敏材料。
- 何少伟陈鹏杰胡庆董翔蒋亚东赖建军王宏臣黄光
- 关键词：二氧化钒薄膜磁控溅射微测辐射热计非致冷红外探测器电阻温度系数
- 低温热致变色VO_2薄膜的制备及应用被引量：9
- 2005年
- 提出了一种制备低温热致变色VO2新型薄膜材料的工艺方法。在玻璃基底的Si3N4薄膜上溅射沉积VOx薄膜,再经还原性气氛退火,最终得到了nm量级的VO2颗粒。四探针测试电阻温度关系表明,该类材料相变温度已经靠近室温。不同温度下测试的红外透过曲线表明,该材料在相变前后有良好的红外开关特性,能够在智能窗等各类光电产品中获得应用。
- 沈楠王双保黄光李毅易新建
- 关键词：VO2薄膜相变离子束溅射智能窗
- 128元非致冷氧化钒红外探测器的制作被引量：14
- 2004年
- 采用新工艺在氮化硅衬底上制备了室温时电阻温度系数为 - 0 .0 2 1K-1的氧化钒薄膜 ,以此为基础 ,利用光刻和反应离子刻蚀工艺在硅衬底上制作了 12 8元氧化钒红外探测器 .为了降低探测器敏感元与衬底间的热导 ,设计制作了自支撑的微桥结构阵列 .测试结果显示探测器的响应率和探测率在 8～ 12 μm的长波红外波段处分别达到10 4V/W和 2× 10 8cmHz1/ 2 W-1.
- 王宏臣易新建陈四海黄光肖静
- 关键词：红外探测器微桥结构氧化钒薄膜电阻温度系数
- 一种制备氧化钒薄膜的新工艺被引量：13
- 2003年
- 采用两步法工艺,即先在衬底上溅射一层金属钒膜,再对其进行氧化的方法,在硅和氮化硅衬底上制备了高电阻温度系数的混合相VOx多晶薄膜。电学测试结果表明:厚度为50nm的氧化钒薄膜的方块电阻和电阻温度系数(TCR)在室温时分别达到50kΩ和0.021K-1。
- 王宏臣易新建黄光肖静陈四海
- 关键词：红外探测器氧化钒薄膜
- 大F数硅微透镜阵列的制作及光学性能测试研究被引量：4
- 2000年
- 提出了一种补偿刻蚀法 :在经过常规光刻热熔成形和离子束刻蚀技术制成的硅微透镜阵列上再涂敷几层光刻胶 ,以降低各单元微透镜的曲率 ,然后再次进行加热固化和离子束刻蚀。扫描电子显微镜 ( SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的球冠形阵列 ,表面探针测试结果显示用补偿刻蚀法制作的微透镜的 F数和 F′数分别可达到 31.62和 35.88,而常规光刻热熔法很难制作出 F数和 F′数分别超过 1.0 0和 4 .0 0的微透镜阵列。光学填充因子也由常规方法的 64.3%提高至78.5% 。
- 何苗易新建程祖海黄光刘鲁勤
- 关键词：微透镜阵列硅
