卢丽珍
- 作品数：5 被引量：2H指数：1
- 供职机构：中国科学院长春应用化学研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学化学工程更多>>
- 在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合
- 1989年
- 用外部电极电容耦合式辉光放电装置研究了六甲基环三硅氧烷在NH_3或N_2中的等离子体聚合。用红外光谱,X线光电子能谱研究了聚合物结构,并测定了聚合物的热稳定性及对水的接触角,计算了聚合物的表面能。结果表明,NH_3和N_2都参加了聚合反应,N在聚合物中的存在形式主要为C=NH,随NH_3在反应体系中浓度的增加,聚合物中的N含量也增加,在NH_3中制备的聚合膜有很好的疏水性。
- 余自力叶牧卢丽珍陈捷
- 关键词：等离子体
- VTMS与Bz、St及HFP等离子体共聚物的性能研究
- 1991年
- 采用外部电极电容耦合的RF辉光放电装置,对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)与苯(Bz)、苯乙烯(St)以及六氟丙烯(HFP)进行共聚合。通过IR、TG、防潮试验、接触角测试研究了共聚物膜的性能。发现VTMS与Bz、St的共聚物膜具有优良的防潮性。
- 颜文革陈捷卢丽珍
- 关键词：苯苯乙烯等离子体共聚物
- 红外光谱技术在有机硅等离子体聚合膜研究中的应用
- 采用外部电容(?)合式等离子体聚合装置,合成了三乙(?)基乙基硅烷((?)),六甲基二硅氧烷(?)等离子体聚合膜·测定淀积在NaCl晶片上聚合膜的IR谱,并研究了不同等离子气体和起始物质对等离子体聚合物的IR谱的影响,以...
- 王世才陈捷卢丽珍
- 文献传递
- 乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能被引量：2
- 1990年
- 采用外部电极电容耦合高频等离子体装置对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)进行等离子体聚合。用IR、XPS、PGC/MS、X-ray、ESR和元素分析等方法对聚合物结构进行表征,并推断聚合反应历程。应用TG研究聚合物的热性能。通过X-ray证实聚合物为非晶结构。在无添加气体存在时聚合,XPS测试结果表明产物中有氧嵌入,且聚合物的C/Si比总的说来比单体的C/Si比低。TG的测试结果表明聚合物膜具有优良的热稳定性。
- 颜文革陈捷卢丽珍王世才
- 关键词：有机硅化合物等离子体聚合
- 六甲基二硅氧烷的等离子体聚合及聚合物的结构与性能
- 1989年
- 在外部电容耦合的辉光放电中进行了六甲基二硅氧烷的聚合。考察了压力、功率以及等离子气体对聚合速率、产物结构和性能的影响。应用IR、XPS、PGC/MS和元素分析等对聚合物的结构进行表征,用TR、热失重、接触角和密度等方法,分别测定了聚合物的热稳定性、疏水性和比重。
- 王世才潘振远陈捷卢丽珍
- 关键词：二硅氧烷等离子体
