赵国栋
- 作品数：2 被引量：10H指数：2
- 供职机构：重庆大学材料科学与工程学院更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺更多>>
- W掺杂量对非晶态TiO_2:W薄膜光学带隙的影响被引量：4
- 2006年
- 在不同的W靶溅射功率下,用反应磁控溅射法在载玻片上制备了TiO2:W薄膜,并对样品进行了XRD,STS和UV-V is分析.结果表明试样为非晶态;W靶溅射功率为30 W时,带隙为2.75eV;W靶溅射功率为100 W时,带隙为3.02 eV;W靶溅射功率为150 W时,带隙能为2.92 eV.STS分析结果表明,在样品的禁带中产生了新的能级,能级宽度为0.83 eV.
- 黄佳木赵国栋
- 关键词：非晶态磁控溅射TIO2吸收光谱
- 非晶态TiO_2-W薄膜的光催化性能研究被引量：6
- 2006年
- 采用磁控溅射技术在玻璃基片上制备了W掺杂的非晶态TiO2薄膜,用XRD、XPS和椭圆偏光测厚仪等对薄膜进行了微观分析.结果表明,TiO2-W薄膜为非晶态结构.Ti以+4价存在;W以0价和+6价形式存在,并且6价和0价W的原子浓度比为6.4∶1;薄膜中Ti和W的原子浓度比为2.6∶1.对5mg·L-1的亚甲基蓝溶液光催化脱色试验表明,随着膜厚的增加,光催化降解率递增,当膜厚达到141nm时,所制备的TiO2-W薄膜对亚甲基蓝的脱色率在2h达到90%;当膜厚大于141nm时,光催化降解率不再增加.
- 黄佳木赵国栋蔡小平董晓霞
- 关键词：磁控溅射光催化薄膜厚度
