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董晓霞

作品数：1 被引量：6H指数：1
供职机构：重庆大学材料科学与工程学院更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇性能研究
  • 1篇膜厚
  • 1篇晶态
  • 1篇溅射
  • 1篇光催化
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶态
  • 1篇薄膜厚度
  • 1篇TIO
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇催化

机构

  • 1篇重庆大学

作者

  • 1篇蔡小平
  • 1篇黄佳木
  • 1篇赵国栋
  • 1篇董晓霞

传媒

  • 1篇环境科学学报

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
非晶态TiO_2-W薄膜的光催化性能研究被引量：6
2006年
采用磁控溅射技术在玻璃基片上制备了W掺杂的非晶态TiO2薄膜,用XRD、XPS和椭圆偏光测厚仪等对薄膜进行了微观分析.结果表明,TiO2-W薄膜为非晶态结构.Ti以+4价存在;W以0价和+6价形式存在,并且6价和0价W的原子浓度比为6.4∶1;薄膜中Ti和W的原子浓度比为2.6∶1.对5mg·L-1的亚甲基蓝溶液光催化脱色试验表明,随着膜厚的增加,光催化降解率递增,当膜厚达到141nm时,所制备的TiO2-W薄膜对亚甲基蓝的脱色率在2h达到90%;当膜厚大于141nm时,光催化降解率不再增加.
黄佳木赵国栋蔡小平董晓霞
关键词：磁控溅射光催化薄膜厚度
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共1页<1>
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