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文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 4篇纳米
  • 3篇纳米片
  • 3篇
  • 2篇电子器件
  • 2篇石英管
  • 2篇加热速率
  • 2篇光电
  • 2篇光电子
  • 2篇光电子器件
  • 2篇大尺寸
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学性能
  • 1篇性能研究
  • 1篇拓扑绝缘体
  • 1篇力学性能
  • 1篇纳米带
  • 1篇纳米力学性能
  • 1篇绝缘体
  • 1篇BI
  • 1篇力学性

机构

  • 4篇东南大学
  • 1篇山东大学

作者

  • 4篇李小帅
  • 3篇朱鸣芳
  • 3篇王增梅
  • 1篇陶绪堂
  • 1篇王善朋
  • 1篇徐佳乐
  • 1篇陆骏
  • 1篇陈兴涛

传媒

  • 1篇无机材料学报

年份

  • 2篇2015
  • 2篇2014
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
一种大尺寸超薄硒化铋纳米片的制备方法
本发明公开了一种大尺寸超薄硒化铋(Bi<Sub>2</Sub>Se<Sub>3</Sub>)纳米片的制备方法—气相传输法,其制备工艺包括以下几步:1)按2:3的摩尔比称取一定量的铋粉和硒粉,清洗好Si/SiO<Sub>2...
王增梅李小帅朱鸣芳
文献传递
Bi2Se3拓扑绝缘体制备与力学、电化学性能研究
Bi2Se3是最新发现的一种新型三维拓扑绝缘体材料,具有一系列优异的电学特性,在低能耗电子器件领域有很大应用前景。纳米尺寸的Bi2Se3成为当前的研究热点,其合成技术还不完善,尤其是制备用于微电子器件的超大尺寸Bi2Se...
李小帅
关键词:纳米力学性能电化学性能
气相传输法制备大尺寸单晶Bi_2Se_3纳米片、纳米带
2014年
低维Bi2Se3纳米材料是最新研究发现的一种新型三维拓扑绝缘体材料,在微电子器件和传感器领域具有广阔的应用前景。本研究采用气相传输法在真空石英管中合成了大尺寸单晶Bi2Se3纳米片、纳米带。通过XRD、EDS、Raman、SEM等手段对Bi2Se3纳米片、纳米带的物相结构、组成、表面形貌等进行表征。测试结果表明:气相传输法合成的单晶Bi2Se3纳米片、纳米带相纯度高,结晶性能好,均是{001}取向;Bi2Se3纳米片水平尺寸大,约为15--180μm;Bi2Se3纳米带长度达860μm,宽度约5μm。根据不同温度下制备的Bi2Se3纳米片、纳米带SEM照片及其不同方向结合能的差异,分析了其可能的生长机制:在较高温度下沿〈001〉和〈1010〉方向生长速度快,生成大尺寸单晶Bi2Se3纳米片;在较低温度下,沿〈1120〉方向生长速度快,生成大尺寸单晶Bi2Se3纳米带。这些研究结果完善了大尺寸Bi2Se3纳米材料的制备工艺,有望在微电子器件领域得到商业化应用。
李小帅王增梅朱鸣芳王善朋陶绪堂陆骏陈兴涛徐佳乐
一种大尺寸超薄硒化铋纳米片的制备方法
本发明公开了一种大尺寸超薄硒化铋(Bi<Sub>2</Sub>Se<Sub>3</Sub>)纳米片的制备方法—气相传输法,其制备工艺包括以下几步:1)按2:3的摩尔比称取一定量的铋粉和硒粉,清洗好Si/SiO<Sub>2...
王增梅李小帅朱鸣芳
文献传递
共1页<1>
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