张聪聪
- 作品数：7 被引量：9H指数：2
- 供职机构：天津理工大学更多>>
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- 掺硼金刚石薄膜的制备及电化学性能研究
- 目前，化学气相沉积(CVD)硼掺杂金刚石具有良好的物理、化学特性，这使其非常适合作为新型电极材料。硼掺杂金刚石(BDD)既具有金刚石极高的硬度和化学稳定性的特性，还具有良好的导电性、低背景电流、宽电势窗口等优点。因此BD...
- 张聪聪
- 关键词：电化学性能L-半胱氨酸多巴胺抗坏血酸
- 修饰掺硼金刚石电极循环伏安法检测尿酸被引量：5
- 2013年
- 用直流等离子体喷射化学气相沉积(CVD)法制备掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。通过扫描电镜(SEM)观察到薄膜表面分布均匀致密;霍尔测试仪检测薄膜的电阻率为0.023Ω.cm,载流子浓度为6.423×1019 cm-3;循环伏安法(CVa)测得其电极电势窗为3.4V;分析了浓度为10μmol/L的尿酸(UA)溶液在BDD电极表面的电化学响应,表明扫描速率的平方根与氧化峰电流呈线性关系。通过对比茜素黄、牛磺酸和L-半胱氨酸3种物质对BDD电极进行修饰,表明由L-半胱氨酸修饰BDD电极的电催化氧化能力最强;在浓度为1×10-7～1×10-4 mol/L范围内,浓度的对数与氧化峰电流呈线性关系,且检测限为1×10-8 mol/L。实验结果表明,20倍浓度的葡萄糖和抗坏血酸对UA的检测不构成影响。
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- 一种硅基纳米金刚石薄膜的制备方法
- 一种硅基纳米金刚石薄膜的制备方法，采用直流等离子喷射CVD制备，步骤如下：1）刻制圆柱体型石墨基台，并在其上表面中心刻出圆形凹槽；2）用金刚石微粉在硅片表面产生划伤和缺陷；3）在真空条件下通入反应气体在硅片上沉积纳米金刚...
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- 文献传递
- 一种用于检测多巴胺的掺硼金刚石薄膜电极的制备方法
- 一种用于检测多巴胺的掺硼金刚石薄膜电极的制备方法，以尖端状钨丝作为基底，在钨丝上沉积掺硼金刚石薄膜，并对金刚石薄膜表面氨基活化处理，然后在掺硼金刚石薄膜上直接制备络氨酸酶修饰层，钨丝通过银膏与导线相连；该掺硼金刚石薄膜电...
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- 文献传递
- 直流电弧等离子体喷射CVD硼掺杂金刚石薄膜的制备及电化学性能研究被引量：4
- 2012年
- 采用直流电弧等离子体喷射CVD(Chemical Vapor Deposition)法在硅(100)衬底上制备了(111)占优的掺硼金刚石(BDD)薄膜,研究了压强对薄膜生长的影响,在压强为5500 Pa时得到了(100)占优的金刚石薄膜,并用SEM、XRD及拉曼光谱分析了薄膜的表面形貌、晶体结构、薄膜品质。测试结果表明,掺硼金刚石膜具有较好的成膜质量。霍尔测试表明BDD的电阻率为0.0095Ω.cm,载流子浓度为1.1×1020cm-3;研究了BDD薄膜电极在硫酸钠空白底液、铁氰化钾/亚铁氰化钾溶液和多巴胺溶液中的循环伏安曲线(CVs),发现该金刚石薄膜电极在硫酸钠中具有较宽的电化学窗口(约为4 V)、接近零的背景电流和良好的可逆性,利用BDD电极检测多巴胺溶液,具有明显的氧化还原峰值和较好的稳定性。结果表明利用该方法制备的BDD电极在电化学检测方面具有明显的优势。
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- 关键词：循环伏安法多巴胺
- 一种用于检测多巴胺的掺硼金刚石薄膜电极的制备方法
- 一种用于检测多巴胺的掺硼金刚石薄膜电极的制备方法，以尖端状钨丝作为基底，在钨丝上沉积掺硼金刚石薄膜，并对金刚石薄膜表面氨基活化处理，然后在掺硼金刚石薄膜上直接制备络氨酸酶修饰层，钨丝通过银膏与导线相连；该掺硼金刚石薄膜电...
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- 一种基于掺硼金刚石薄膜的抗坏血酸氧化酶传感器电极
- 一种基于掺硼金刚石薄膜的抗坏血酸氧化酶传感器电极，由硼掺杂金刚石薄膜、氨基单分子层和酶膜层构成；其制备方法是：首先将钽片经表面预处理后，利用热丝CVD设备在钽片上沉积掺硼金刚石薄膜，然后对掺硼金刚石薄膜进行氨基化修饰，最...
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- 文献传递
