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杨科

作品数：27 被引量：9H指数：2
供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 19篇专利
  • 4篇期刊文章
  • 4篇会议论文

领域

  • 6篇电子电信
  • 5篇理学
  • 3篇机械工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇建筑科学
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇自然科学总论

主题

  • 14篇激光
  • 12篇熔石英
  • 11篇激光损伤
  • 7篇光学
  • 6篇刻蚀
  • 4篇底板
  • 4篇超声
  • 4篇超声清洗
  • 3篇导轨
  • 3篇氧化硅
  • 3篇液面
  • 3篇硬质
  • 3篇溶胶
  • 3篇锁止
  • 3篇透镜
  • 3篇涂膜
  • 3篇光学薄膜
  • 3篇二氧化硅
  • 3篇二氧化碳激光
  • 3篇高纯水

机构

  • 27篇中国工程物理...
  • 2篇北京科技大学
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 27篇杨科
  • 20篇严鸿维
  • 20篇袁晓东
  • 17篇刘太祥
  • 13篇晏良宏
  • 10篇陈静
  • 9篇张丽娟
  • 8篇吕海兵
  • 8篇张传超
  • 8篇王海军
  • 7篇蒋晓龙
  • 7篇廖威
  • 7篇栾晓雨
  • 7篇蒋一岚
  • 6篇白阳
  • 5篇王韬
  • 5篇郑万国
  • 4篇周海
  • 4篇黄进
  • 4篇李昌朋

传媒

  • 3篇强激光与粒子...
  • 1篇应用光学

年份

  • 5篇2023
  • 1篇2021
  • 1篇2019
  • 8篇2018
  • 9篇2017
  • 1篇2016
  • 2篇2015
共 27 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
大气常压等离子射流清洗溶胶-凝胶SiO2膜表面油脂污染物
采用大气常压等离子射流技术对溶胶-凝胶SiO2 膜表面的油脂污染物进行清洗。利用分光光度计、扫描电子显微镜、红外光谱仪对溶胶-凝胶SiO2 膜透过率、表面形貌、化学结构进行表征，并分析清洗前后溶胶-凝胶SiO2 膜的激光...
刘昊苗心向杨科吕海兵邹睿周国瑞程晓峰严鸿维袁晓东贾宝申
关键词：激光损伤阈值
一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法
本发明公开了一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法，该方法利用短时间酸蚀刻过程六氟硅酸根的浓度扩散，酸蚀刻后把熔石英元件进行喷淋和超声清洗去除残留离子，再多次重复酸蚀刻、喷淋、超声漂洗此过程，实现一定深度的熔石英的蚀刻，不...
杨科严鸿维刘太祥晏良宏陈静贾宝申李合阳张卓黄贝聪吕海兵蒋晓东
一种侧提拉式单面涂膜机
本实用新型公开了一种侧提拉式单面涂膜机，包括：支撑架，其侧面设置有垂直导轨；支撑架的底部连接有底板；底板上设置有底板导轨；横臂梁，其可滑动连接在垂直导轨上；第一提拉臂，其设置在横臂梁上且远离横臂梁的自由端；第一提拉臂上可...
刘太祥晏良宏严鸿维杨科李合阳张卓袁晓东
文献传递
原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法
本发明公开了一种原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法，利用二氧化碳激光辐照熔石英样品形成材料微结构调控区阵列，然后采用氢氟酸溶液刻蚀熔石英样品，得到熔石英微透镜阵列。采用以上方案，极大简化了熔石英微透镜阵列的制作...
张传超廖威杨科王海军张丽娟陈静蒋一岚蒋晓龙栾晓雨周海袁晓东郑万国
文献传递
熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法
本发明专利公开了一种熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法，包括：从二氧化碳激光器获得连续稳定的二氧化碳激光；对二氧化碳激光进行聚焦；将清洗后的熔石英样片放置在聚焦的二氧化碳激光的焦点位置；采用振镜系统扫描聚焦后的二氧化碳激光辐...
张传超廖威杨科蒋晓龙白阳张丽娟王海军陈静蒋一岚栾晓雨周海袁晓东郑万国
文献传递
提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法
本发明公开了一种提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法，包括：采用碱性溶液对熔石英元件进行超声清洗；将碱性溶液清洗后的熔石英元件采用高纯水进行超声清洗，烘干；将高纯水清洗后的熔石英元件进行亚玻璃化转变温度热处理；将热处理...
陈静张丽娟蒋一岚张传超廖威杨科蒋晓龙白阳王海军栾晓雨袁晓东
一种高抗激光损伤性能石英表面的制备方法
本发明涉及一种高抗激光损伤性能的石英表面制备方法，包括以下步骤：先对石英基片进行刻蚀处理；其后再对所述石英基片进行Marangoni干燥处理；最后再对所述石英基片进行二氧化碳激光热处理；通过刻蚀能够有效去除石英表面的抛光...
李昌朋杨科张卓王海军钱宇杰张传超易聪之刘太祥严鸿维黄进黄林
一种侧提拉式单面涂膜机
本发明公开了一种侧提拉式单面涂膜机，包括：支撑架，其侧面设置有垂直导轨；支撑架的底部连接有底板；底板上设置有底板导轨；横臂梁，其可滑动连接在垂直导轨上；第一提拉臂，其设置在横臂梁上且远离横臂梁的自由端；第一提拉臂上可伸缩...
刘太祥晏良宏严鸿维杨科李合阳张卓袁晓东
文献传递
化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响被引量：1
2017年
化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。
王志强严鸿维袁晓东杨科李源晏良宏张丽娟刘太祥李合阳
关键词：激光光学熔石英沉积物激光诱导损伤
提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法
本发明专利公开了一种提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法，包括：采用碱性溶液对熔石英元件进行超声清洗；将碱性溶液清洗后的熔石英元件采用高纯水进行超声清洗，烘干；将高纯水清洗后的熔石英元件进行亚玻璃化转变温度热处理；将热...
陈静张丽娟蒋一岚张传超廖威杨科蒋晓龙白阳王海军栾晓雨袁晓东
文献传递
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