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刘太祥

作品数：32 被引量：26H指数：2
供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
发文基金：国家自然科学基金中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
相关领域：理学机械工程电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 22篇专利
  • 6篇期刊文章
  • 4篇会议论文

领域

  • 7篇理学
  • 5篇机械工程
  • 5篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇建筑科学
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇自然科学总论

主题

  • 11篇激光
  • 11篇光学
  • 7篇熔石英
  • 7篇激光损伤
  • 5篇刻蚀
  • 5篇光学元件
  • 4篇底板
  • 4篇处理过程
  • 3篇导轨
  • 3篇电场
  • 3篇氧化硅
  • 3篇液面
  • 3篇硬质
  • 3篇噪声污染
  • 3篇折射率
  • 3篇锁止
  • 3篇涂膜
  • 3篇刻蚀液
  • 3篇交变电场
  • 3篇光学薄膜

机构

  • 31篇中国工程物理...
  • 2篇北京科技大学
  • 2篇中国科学技术...
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 32篇刘太祥
  • 25篇严鸿维
  • 24篇杨科
  • 15篇晏良宏
  • 14篇袁晓东
  • 10篇黄进
  • 9篇吕海兵
  • 9篇李昌朋
  • 4篇陈静
  • 4篇白阳
  • 3篇王韬
  • 3篇张丽娟
  • 3篇张传超
  • 3篇王海军
  • 3篇蒋晓东
  • 3篇牛龙飞
  • 2篇周国瑞
  • 2篇郑万国
  • 2篇龚兴龙
  • 2篇宣守虎

传媒

  • 3篇强激光与粒子...
  • 1篇力学进展
  • 1篇应用光学
  • 1篇噪声与振动控...

年份

  • 6篇2024
  • 7篇2023
  • 1篇2021
  • 8篇2018
  • 7篇2017
  • 2篇2015
  • 1篇2013
共 32 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
空心二氧化硅纳米颗粒构筑的涂层折射率调控与性能研究
严鸿维邹鑫书陶朝友晏良宏杨科刘太祥吕海兵
磁敏智能软材料及磁流变机理被引量：14
2015年
磁敏智能软材料是一类将微米或纳米尺度的磁性颗粒分散在不同基体中制备而成的多功能复合材料。由于其流变性能在外磁场的调控下可以实现连续、快速、可逆的改变,因此在建筑、振动控制和汽车工业等领域得到了广泛地应用。本文首先介绍了磁敏智能软材料发展历史及分类,分析了不同种类的磁敏智能软材料的特点和存在的科学问题;然后从实验和理论两个方面讨论了磁流变机理的研究现状;最后从实际应用的角度对这类材料未来的发展方向进行了展望。
许阳光龚兴龙万强刘太祥宣守虎
交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置及处理方法
本发明公开了一种交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置及处理方法，通过位置控制单元将平行电极板放置在储液槽内，将提拉臂的一端通过升降单元连接在第一丝杠的第一滑块上，通过控制第一伺服电机使提拉臂沿横臂梁移动至储液槽上方，将连...
刘太祥严鸿维杨科晏良宏李合阳张卓袁晓东
平面透镜的制备方法
本发明公开了一种平面透镜的制备方法，包括：采用高折射率的纳米流体材料溶液滴加到疏松多孔、折射率低、损伤阈值高的凝胶块体材料上，通过纳米流体材料在凝胶块体材料中的扩散，利用纳米流体材料物理特性及凝胶块体材料孔洞结构，使纳米...
吕海兵袁晓东牛龙飞苗心向周国瑞刘昊严鸿维白阳刘太祥晏良宏
一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法
本发明公开了一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法，该方法利用短时间酸蚀刻过程六氟硅酸根的浓度扩散，酸蚀刻后把熔石英元件进行喷淋和超声清洗去除残留离子，再多次重复酸蚀刻、喷淋、超声漂洗此过程，实现一定深度的熔石英的蚀刻，不...
杨科严鸿维刘太祥晏良宏陈静贾宝申李合阳张卓黄贝聪吕海兵蒋晓东
一种侧提拉式单面涂膜机
本实用新型公开了一种侧提拉式单面涂膜机，包括：支撑架，其侧面设置有垂直导轨；支撑架的底部连接有底板；底板上设置有底板导轨；横臂梁，其可滑动连接在垂直导轨上；第一提拉臂，其设置在横臂梁上且远离横臂梁的自由端；第一提拉臂上可...
刘太祥晏良宏严鸿维杨科李合阳张卓袁晓东
文献传递
一种侧提拉式单面涂膜机
本发明公开了一种侧提拉式单面涂膜机，包括：支撑架，其侧面设置有垂直导轨；支撑架的底部连接有底板；底板上设置有底板导轨；横臂梁，其可滑动连接在垂直导轨上；第一提拉臂，其设置在横臂梁上且远离横臂梁的自由端；第一提拉臂上可伸缩...
刘太祥晏良宏严鸿维杨科李合阳张卓袁晓东
文献传递
一种快速检测光学元件表面热敏性缺陷分布的方法
本发明公开了一种快速检测光学元件表面热敏性缺陷分布的方法，具体涉及光学元件精密检测技术领域，包括如下步骤，激光连续泵浦系统设计、微区干涉显微成像系统设计、自动控制及数据采集系统设计，能够在几个小时的时间内完成100mm口...
黄进蒋晓东王成程周晓燕刘太祥
化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响被引量：1
2017年
化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。
王志强严鸿维袁晓东杨科李源晏良宏张丽娟刘太祥李合阳
关键词：激光光学熔石英沉积物激光诱导损伤
交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置及处理方法
本发明公开了一种交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置及处理方法，通过位置控制单元将平行电极板放置在储液槽内，将提拉臂的一端通过升降单元连接在第一丝杠的第一滑块上，通过控制第一伺服电机使提拉臂沿横臂梁移动至储液槽上方，将连...
刘太祥严鸿维杨科晏良宏李合阳张卓袁晓东
文献传递
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