王小芬
- 作品数：3 被引量：9H指数：2
- 供职机构：江西理工大学更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金博士科研启动基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 一种工程用超疏水金属镀层及其制备方法
- 本发明公开了一种工程用超疏水金属镀层的制备方法，属于表面疏水材料制备领域，包括如下步骤(1)镀液的配制：将一定量的柠檬酸盐作为络合剂溶于水中，充分搅拌后依次加入一定量的镍盐、铜盐，并加入适量甘氨酸和钨酸盐，最后用硫酸和氨...
- 周琼宇冷翔欧平王小芬齐亮
- 文献传递
- 基于人工神经网络预测Ni-W合金镀层的硬度和耐腐蚀性能被引量：5
- 2016年
- 目的预测Ni-W合金镀层的硬度和耐腐蚀性能,优化Ni-W合金镀层的电沉积工艺。方法在柠檬酸-硫酸盐溶液体系中直接沉积制备Ni-W合金镀层,并将实验所得镀层数据作为学习样品,利用BP神经网络对建立了Ni-W合金电沉积过程参数对镀层硬度和腐蚀电流密度之间的映射关系。结果低碳钢表面所沉积的Ni-W合金镀层表面均匀致密,与基体结合良好,能够有效地对基体起到保护作用。第二隐层的加入使得3-7-15-2四层网络达到网络收敛的训练次数（1 215 365次）远小于3-7-2三层网络的训练次数（239 950 000次）。四层网络预测所得镀层的硬度和腐蚀电流密度与实验值十分相近,其相对误差≤5.03%。结论 BP神经网络能够准确建立电沉积Ni-W合金镀层的工艺条件和目标性能之间的映射关系,在本文所用的沉积体系和参数范围内,Ni-W合金镀层的显微硬度在296~982HV之间,其硬度最大时所对应的电沉积工艺条件为：p H=7.2,电流密度8 A/dm2,WO42＋浓度为0.46 mol/L。Ni-W合金镀层的腐蚀电流密度在7.3~100μA/cm2范围内。镀层耐蚀性能最好时,即镀层腐蚀电流密度最小时的电沉积工艺条件为：p H=6.4,电流密度0.36 A/dm2,WO42＋浓度为0.34 mol/L。
- 周琼宇谢蔚王小芬王操胡义锋
- 关键词：NI-W合金人工神经网络BP网络耐蚀性
- 镀液pH值对电沉积Ni-W合金镀层结构及其耐蚀性能的影响被引量：4
- 2016年
- 采用直流电沉积的方法在低碳钢表面制备了一层Ni-W合金镀层,研究了pH值对电沉积Ni-W合金镀层结构及其耐蚀性能的影响。结果表明:在硫酸盐-柠檬酸镀液体系中可直接沉积一层均匀致密的Ni-W合金层,pH值小于7的镀液沉积得到纳米晶结构的Ni-W镀层;pH值大于7时,镀层为非晶态结构。Ni-W合金层的硬度主要由镀层中W含量所决定,镀液pH值为5.5时所沉积的Ni-W镀层中W含量最高,镀层的硬度最高(753 HV);在3.5%(质量分数)NaCl溶液中,Ni-W合金层均表现出比低碳钢更低的电化学活性,对基体具有良好的保护作用。在所有的Ni-W合金镀层样品中,非晶态镀层由于表面易发生钝化而具有更加优异的耐蚀性能,其中镀液pH值为7.5时所沉积的镀层具有最优的耐蚀性能。
- 周琼宇王小芬钟庆东王操胡一峰
- 关键词：NI-W合金镀层电沉积耐蚀性电化学阻抗
