马蕊
- 作品数：3 被引量：4H指数：1
- 供职机构：上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金国家科技支撑计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程更多>>
- 基于AFM硅表面局域阳极氧化的特性研究及纳米计量标准样板的制作被引量：1
- 2016年
- 基于原子力显微镜(AFM)在硅(Si)表面进行局域阳极氧化的技术,以其成本低、易加工等优势被广泛应用于各种纳米元器件的制造.本文基于AFM在Si表面进行局域阳极氧化来制作纳米计量标准样板,首先分别在接触模式和轻敲模式下进行实验,定量分析了偏置电压、移动速率和刻蚀方向等主要参数对所得纳米线尺寸的影响,从而得到标准样板制作的最佳加工参数:在探针针尖电压为-7 V、移动速率为0.3μm/s、Z Distance值为-45 nm时,可以产生稳定的标准样板结构;同时两种模式下对纳米氧化线的影响趋势相同.最后在此最佳参数下,利用AFM在Si表面进行局域阳极氧化,加工得到了一维线光栅、二维光栅和圆形光栅结构.
- 程锋马艳马蕊李同保
- 关键词：原子力显微镜阳极氧化光栅
- 原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究被引量：2
- 2014年
- 利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用,利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制,从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高,光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚,相干等特性进行了研究,取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。
- 陈晟马艳张萍萍王建波邓晓肖盛炜马蕊李同保
- 关键词：原子光刻几何光学
- 基于AFM氮化硅探针刻蚀方法制作聚碳酸酯纳米光栅被引量：1
- 2014年
- 基于原子力显微镜（AFM）探针的纳米机械刻蚀技术以其成本低、分辨率高的优势被广泛应用于各种纳米元器件的制造中．为了得到最优的光栅结构，首先通过单次刻蚀实验定量分析了刻蚀方向、加栽力和刻蚀速率等3个主要加工参数对所得纳米沟槽形貌和尺寸的影响，给出了普通氮化硅探针对聚碳酸酯（PC）的加工特性及加工效率．然后通过改变沟槽间距（100—500nm）得到了不同周期的纳米光栅结构，并确定了这种探针与样品的组合对间距的要求及最佳加工参数：沿垂直于微悬臂长轴向右刻蚀，加载力2．3μN，刻蚀速率2．6μm／s．最后利用该技术对实验室已有原子光刻技术所得周期为213nm的一维Cr原子光栅结构进行了复制加工。得到了均匀的213nm一维光栅，证明这种基于AFM探针的纳米机械刻蚀技术可被广泛应用于纳米加工．
- 马蕊马艳邓晓李同保
- 关键词：原子力显微镜微纳加工
