李静平
- 作品数:36 被引量:14H指数:2
- 供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金中国科学院战略性先导科技专项更多>>
- 相关领域:理学金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>
- 综合沉积镀膜设备及综合镀膜方法
- 一种电子束蒸发、离子束辅助与离子束溅射综合沉积镀膜设备及综合镀膜方法,设备包括由左电子枪坩埚、右电子枪坩埚、离子源辅源、离子源主源、溅射靶材和夹具盘组成的综合沉积系统。本发明结合了电子束蒸发沉积技术、离子束辅助沉积技术及...
- 朱美萍曾婷婷邵建达易葵孙建李静平王建国张伟丽
- 单斜相HfO_2薄膜弹性常数的第一性原理计算被引量:4
- 2013年
- 用电子束蒸发沉积在K9玻璃基底上镀制HfO2薄膜,沉积温度为200℃,蒸发速率为0.03nm/s。由X射线衍射谱可知薄膜出现明显结晶,且为单斜相和正交相混合结构,其中单斜相占明显优势。用Jade5软件分析得到单斜相HfO2的晶格常数a,b,c以及晶格矢量a和c之间的夹角β。基于得到的晶格常数建立了单斜相HfO2薄膜的晶体结构模型。同时建立固态单斜相HfO2的晶体结构模型进行对比。通过密度泛函理论(DFT)框架下的平面超软赝势法,采用两种不同的交换关联函数:局域密度近似(LDA)中的CA-PZ和广义梯度近似(GGA)中的质子平衡方程(PBE),计算了薄膜态和固态单斜晶相HfO2的弹性刚度系数矩阵Cij和弹性柔度系数矩阵Sij,Reuss模型、Voigt模型和Hill理论下的体积模量和剪切模量,材料平均杨氏模量和泊松比。此外还计算得到薄膜态和固态单斜晶相HfO2在不同方向上的杨氏模量。
- 蔺玲邵淑英李静平
- 关键词:HFO2薄膜第一性原理
- 渐变界面纳米薄层提升HfO<Sub>2</Sub>/Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>/SiO<Sub>2</Sub>紫外反射膜激光损伤阈值的方法
- 一种基于渐变界面纳米薄层技术提升HfO<Sub>2</Sub>/Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>/SiO<Sub>2</Sub>紫外反射膜激光损伤阈值的方法,利用电子束蒸发技术交替沉积纳米厚度Al<...
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- 文献传递
- 一种大口径光学薄膜元件镀膜夹具
- 一种大口径光学薄膜元件镀膜夹具,包括夹具基板和多个支撑固定组件,所述的夹具基板中心设有内腔,用以放置大口径光学薄膜元件,该内腔侧壁四周设有多个螺纹孔和凹槽,所述的支撑固定组件包含支撑垫片、缓冲垫片、限位块、第一螺栓和第二...
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- 基于混合物单层膜的光学镀膜元件面形补偿方法
- 一种基于混合物单层膜的光学镀膜元件面形补偿方法,同时利用电子束双源共蒸技术和离子束辅助沉积技术,在基底的非镀膜或者在镀膜后面形较凹的待镀膜面沉积离子束辅助混合物单层膜,形成折射率与基底相同的光学虚设层来调谐镀膜元件面形。...
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- 文献传递
- 提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性的镀膜方法
- 采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术,提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜,以获得较高的抗激光损伤阈值;利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹...
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- 文献传递
- 综合沉积镀膜设备及综合镀膜方法
- 一种电子束蒸发、离子束辅助与离子束溅射综合沉积镀膜设备及综合镀膜方法,设备包括由左电子枪坩埚、右电子枪坩埚、离子源辅源、离子源主源、溅射靶材和夹具盘组成的综合沉积系统。本发明结合了电子束蒸发沉积技术、离子束辅助沉积技术及...
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- 文献传递
- 基于离子束辅助纳米叠层解决电子束沉积薄膜龟裂的方法
- 一种基于离子束辅助纳米叠层解决电子束沉积薄膜龟裂的方法,首先通过计算获得纳米叠层周期数,利用离子束辅助沉积技术在基底表面沉积高、低折射率交替的纳米叠层,该离子束辅助纳米叠层薄膜呈现压应力,且其中每层膜的厚度仅为几个纳米;...
- 朱美萍刘天宝李静平邵建达孙建王建国邵宇川
- 文献传递
- 基于类三明治结构界面和复合材料的二向色镜及其制备方法
- 一种基于类三明治结构界面和复合材料的二向色镜及其制备方法。利用电子束蒸发技术同时沉积折射率大于1.8的材料A和光学带隙大于6.0eV的材料B形成复合材料取代常规二向色镜薄膜中的单一高折射率材料作为高折射率膜层H,利用单一...
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- 文献传递
- 一种调控光学元件测量样品腔室内相对湿度的装置和方法
- 本发明公开了一种调控光学元件测量样品腔室内相对湿度的装置和方法。本装置通过调控干燥气体和高湿气体的流量比例,形成特定所需湿度的混合气体通入光学元件测量样品腔室中,以实现对光学元件测量样品腔室内相对湿度的有效调控。本发明可...
- 孙建王陈飞朱美萍张伟丽易葵李静平王胭脂王龙生邵宇川邵建达