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林炜

作品数:5 被引量:65H指数:3
供职机构:北京科技大学冶金与生态工程学院更多>>
发文基金:北京市科委科技计划项目更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学自然科学总论更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇自然科学总论
  • 1篇理学

主题

  • 1篇刀具
  • 1篇刀具涂层
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇电阻率
  • 1篇织构
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇数对
  • 1篇透光率
  • 1篇透明导电
  • 1篇透明导电薄膜
  • 1篇涂层
  • 1篇气相沉积
  • 1篇温度
  • 1篇物理气相沉积
  • 1篇临界电流
  • 1篇临界电流密度
  • 1篇临界温度

机构

  • 5篇北京科技大学
  • 1篇北京京东方光...

作者

  • 5篇马瑞新
  • 5篇林炜
  • 4篇吴中亮
  • 4篇康勃
  • 3篇王目孔
  • 1篇薛建设

传媒

  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇表面技术
  • 1篇液晶与显示
  • 1篇硬质合金
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
(Al,Zr)共掺杂ZnO透明导电薄膜的结构以及光电性能研究被引量:15
2007年
用射频磁控溅射法在玻璃衬底上氩气气氛中制备出(Al,Zr)共掺杂的ZnO透明导电薄膜,研究了不同Zr掺杂浓度和薄膜厚度ZnO薄膜的结构、电学和光学特性。结果表明,在最佳沉积条件下我们制备出了具有(002)单一择优取向的多晶六角纤锌矿结构,电阻率为2.2×10-2Ω.cm,且可见光段(320~800nm)平均透过率达到85%的ZnO透明导电薄膜。在150℃的条件下对(Al,Zr)共掺杂的ZnO薄膜进行1h的退火处理,薄膜电阻率降低至8.4×10-3Ω.cm。Zr杂质的掺入改善了薄膜的可见光透光性。
薛建设林炜马瑞新康勃吴中亮
关键词:透明导电薄膜电阻率透光率射频磁控溅射
现代刀具涂层制备技术的研究现状被引量:23
2008年
刀具涂层是一种机床工具行业的重要材料,其性能直接影响数控机床的机械加工精度。概述了刀具涂层材料的特点、要求及涂层制备技术的发展,分析了化学气相沉积法、物理气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法及溶胶-凝胶法等几种涂层制备方法的优缺点。结合国内外刀具涂层的研究现状及发展趋势,指出在大力发展化学气相沉积涂层和物理气相沉积涂层技术的同时,开发两者相结合的新型工艺,推动国内刀具涂层技术的快速发展。
康勃马瑞新吴中亮王目孔林炜
关键词:刀具涂层化学气相沉积物理气相沉积溶胶-凝胶
TiAlN硬质薄膜/涂层材料的研究进展被引量:25
2008年
概述了TiAlN硬质薄膜/涂层材料的基本性质、应用及制备技术的发展。介绍了国内外利用磁控溅射法(MS)、空心阴极离子镀(HCD)、多弧离子镀等镀膜工艺制备TiAlN硬质薄膜材料的最新研究进展。TiAlN薄膜应用于切削加工、航空、航天和模具中的优良性能。
王目孔马瑞新林炜康勃吴中亮
高温超导YBCO薄膜及其制备被引量:2
2006年
概述了高温超导YBCO(Y1Ba2Cu3O7-x)薄膜的基本性质、应用及制备技术的发展。介绍了脉冲激光沉积(PLD)与磁控溅射(MS)等的基本原理、工艺特点和最新发展情况。YBCO薄膜应用于超导电子器件中表现出优良的性能,如超导量子干涉仪(SQUID)等。
林炜马瑞新
关键词:YBCO薄膜临界电流密度临界温度
双向脉冲电镀工艺参数对Na_2WO_4-ZnO-WO_3熔盐镀钨层织构的影响被引量:3
2009年
采用双向脉冲电镀工艺镀钨,并对工艺参数影响镀钨层织构进行研究.首次采用(222)不完整极图对钼片基体上的钨镀层织构进行研究.结果表明:钨镀层具有为{001}<110>织构;工艺条件的变化对镀层织构的影响主要体现在织构的散漫程度随着脉冲周期和迭加直流分量的增加而增加.金相和SEM观察均表明镀层为微观不平整表面,并借助表面的数据对钨镀层的形貌进行解释.
马瑞新林炜吴中亮康勃王目孔
关键词:脉冲镀
共1页<1>
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