刘辉
- 作品数：4 被引量：7H指数：2
- 供职机构：武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室更多>>
- 发文基金：湖北省教育厅科学技术研究项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学化学工程一般工业技术更多>>
- MPCVD制备大面积自支撑金刚石膜研究进展被引量：2
- 2016年
- 金刚石膜因其优异的物理化学性质备受关注,而大面积自支撑金刚石膜因其结构完整性在各大领域的应用范围更胜一筹。综述了大面积自支撑金刚石膜的、研究进展和影响其沉积均匀性和沉积速率的因素。表明微波频率越高,沉积速率越快;而气体流速对沉积速率的影响呈现先增大后减少的趋势;基片台的设计对金刚石的均匀性至关重要;辅助气体对金刚石膜的影响与添加的气体种类有关,微量N_2、O_2的加入可以提高沉积速率。最后对大面积自支撑金刚石在红外窗口的应用进行展望。
- 刘辉汪建华翁俊陈义吴骁
- 关键词：金刚石膜自支撑均匀性沉积速率
- 不同CO_2流量对CVD金刚石膜生长的影响研究被引量：1
- 2016年
- 采用微波等离子体化学气相沉积法，以CH4-CO2为气源，通过改变CO2的流量，探讨了此气源下金刚石膜的生长情况。利用扫描电子显微镜对制备的金刚石膜表面形貌和断面进行了表征，采用Raman和X射线衍射仪对金刚石膜的质量和晶体结构进行分析。结果表明，CH4流量为50mL/min时，CO2流量在20～40mL/min范围内可以沉积出完整的金刚石膜，CO2的流量对金刚石膜的表面形貌影响较大，在CO2/CH4=30∶50条件下，沉积速率可达到3.4μm/h，同时可以制备出高质量的金刚石膜。
- 吴骁汪建华翁俊孙祁陈义刘辉刘繁
- 关键词：CO2MPCVDCVD金刚石膜
- 碳氧比对金刚石薄膜生长的影响被引量：1
- 2016年
- 采用微波等离子体化学气相沉积法,以H_2/CH_4/CO_2为混合气源,通过改变气源碳氧比,探讨了碳氧比对金刚石薄膜生长的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和Raman光谱表征金刚石薄膜的表面形貌、晶粒取向和结晶质量。结果表明,随着C/O比的降低,金刚石膜表面形貌由原来的(100)面为主转向(111)面为主的金字塔形,薄膜质量有所提高,内应力降低。
- 陈义汪建华翁俊孙祁吴骁刘辉刘繁
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积CO2金刚石膜
- 低温沉积金刚石薄膜的研究被引量：3
- 2016年
- 利用微波等离子体化学气相沉积法,以甲烷、氢气和氩气作为工作气体,在较低的沉积温度下,沉积得到了连续的金刚石薄膜。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪分别对金刚石薄膜的表面形貌、生长结构以及沉积质量进行了表征。实验结果表明,氩气的引入虽然可以有效的降低获得金刚石薄膜所需的基片温度,但为了提高金刚石薄膜的质量,需要适当的提高微波功率。同时,当基片温度一定时,在CH4/H2/Ar体系和CH4/H2体系下均可获得表面形貌与生长结构相似的金刚石薄膜,且可能利用CH4/H2/Ar作为工作气体沉积金刚石薄膜所需要的微波功率更低。
- 翁俊孙祁刘繁陈义吴骁刘辉汪建华
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜
