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王旭

作品数:3 被引量:6H指数:2
供职机构:北京工业大学应用数理学院更多>>
发文基金:北京工业大学博士启动基金北京市自然科学基金北京市人才强教计划项目更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇圆偏振
  • 2篇圆偏振光
  • 2篇偏振
  • 2篇偏振光
  • 2篇偏振光谱
  • 2篇氢化非晶硅
  • 2篇椭圆偏振
  • 2篇椭圆偏振光
  • 2篇椭圆偏振光谱
  • 2篇光谱
  • 2篇光学
  • 2篇光学参数
  • 2篇非晶
  • 2篇非晶硅
  • 2篇测试分析
  • 1篇压强
  • 1篇氢化非晶硅薄...
  • 1篇温度
  • 1篇工作气压
  • 1篇硅薄膜

机构

  • 3篇北京工业大学

作者

  • 3篇邓金祥
  • 3篇崔敏
  • 3篇王旭
  • 2篇陈仁刚
  • 2篇高学飞
  • 2篇陈亮
  • 2篇李廷
  • 1篇刘国庆
  • 1篇王吉有
  • 1篇原安娟
  • 1篇孔乐
  • 1篇万欣
  • 1篇崔成宇
  • 1篇周琪

传媒

  • 1篇物理实验
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2013
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
空气密度测量仪的研制与测试研究被引量:4
2013年
研制了空气密度测量仪,能够同时测量并直接显示空气的温度、湿度、压强和密度.密封空气的测量结果较好地验证了理想气体状态方程,空气密度测量不确定度为0.1kg/m3,湿度的不确定度对密度测量的影响最大.
王旭崔敏周琪崔成宇万欣邓金祥王吉有原安娟刘国庆
关键词:不确定度温度压强
氢化非晶硅薄膜制备及其椭圆偏振光谱测试分析被引量:2
2014年
射频磁控溅射法制备a-Si:H薄膜,利用椭圆偏振光谱对不同气压下a-Si:H薄膜的厚度、折射率和消光系数进行了测试和研究。薄膜采用双层光学模型,通过Forouhi-Bloomer模型对椭圆偏振光谱参数进行拟合,获得450-850 nm光谱区域的a-Si:H薄膜光学参数值。结果表明,随着工作气压增加,薄膜厚度增厚,沉积速率升高;相同工作气压下,随偏振光波长增大,折射率呈下降趋势;相同波长偏振光下,折射率随工作气压上升而下降,折射率变化范围在3.5-4.1;消光系数随着工作气压增大呈略微增大的趋势。根据吸收系数与消光系数的关系,获得了薄膜的吸收谱,测算出不同工作气压下a-Si:H薄膜的光学带隙为1.63 eV-1.77 eV。
崔敏邓金祥李廷陈亮陈仁刚高学飞孔乐王旭
关键词:A-SI椭圆偏振光谱光学参数工作气压
氢化非晶硅薄膜制备及其椭圆偏振光谱测试分析
氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜是一种优异的光电功能材料,具有光吸收率高、电阻温度系数大、可大面积低温成膜、易掺杂、基片种类不限、与硅半导体工艺兼容等突出优点,在太阳能电池、薄膜晶体管、液晶显示和光电探测等领域有着广泛的应...
崔敏邓金祥李廷陈亮陈仁刚高学飞王旭
关键词:氢化非晶硅薄膜A-SI:H椭圆偏振光谱光学参数
文献传递
共1页<1>
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