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赵建伟

作品数：3 被引量：2H指数：1
供职机构：南京大学化学化工学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇单分子
  • 1篇单分子膜
  • 1篇电沉积
  • 1篇电容
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇石墨
  • 1篇自组装
  • 1篇自组装单分子...
  • 1篇硅表面
  • 1篇分子
  • 1篇分子膜
  • 1篇NI(OH)...
  • 1篇STM
  • 1篇超电容

机构

  • 3篇南京大学
  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇佳木斯大学

作者

  • 3篇赵建伟
  • 1篇史立秋
  • 1篇郭彦
  • 1篇董申
  • 1篇贺园园
  • 1篇闫永达
  • 1篇孙涛

传媒

  • 1篇纳米技术与精...
  • 1篇第十届全国扫...

年份

  • 1篇2011
  • 2篇2008
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
石墨诱导可控电沉积Ni(OH)2纳米离子及超电容特性研究
贺园园赵建伟
硅表面十六烯薄膜的制备与表征被引量：2
2008年
利用机械与化学结合的方法实现了硅基底上的可控自组装("割草种花"思想),为纳米尺度结构的构筑提供了一定的实验基础.基于金刚石刀具切削的自组装加工技术,在氢终止的硅表面上制备了十六烯自组装单分子膜,并利用原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XPS)对自组装膜进行了检测和表征,证明这种方法能够方便快捷地实现硅基底上的可控自组装;并用AFM检测了十六烯薄膜的黏着力,分析了可能导致其变化的原因,根据黏着力的变化也说明切削区域生成了自组装膜.
史立秋孙涛闫永达董申赵建伟
关键词：原子力显微镜自组装单分子膜
利用STM构造C60单分子结及其电学表征
郭彦ManabuKiguchi赵建伟KeiMurakoshi
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共1页<1>
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