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刘强

作品数:18 被引量:21H指数:2
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:中国科学院知识创新工程国防科技技术预先研究基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术一般工业技术更多>>

文献类型

  • 11篇专利
  • 5篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 11篇光刻
  • 8篇透镜
  • 8篇微透镜
  • 7篇透镜阵列
  • 7篇微透镜阵列
  • 6篇掩模
  • 5篇防伪
  • 4篇阵列
  • 4篇图案
  • 4篇刻蚀
  • 4篇光刻掩模
  • 4篇防伪标识
  • 3篇光刻胶
  • 2篇银膜
  • 2篇散射
  • 2篇散射光
  • 2篇湿法
  • 2篇平板
  • 2篇微光刻
  • 2篇微光刻技术

机构

  • 18篇中国科学院
  • 1篇兰州大学

作者

  • 18篇刘强
  • 11篇杜春雷
  • 8篇董小春
  • 6篇赵泽宇
  • 6篇侯德胜
  • 4篇邓启凌
  • 3篇张晓玉
  • 3篇姚汉民
  • 2篇罗先刚
  • 2篇周崇喜
  • 2篇李淑红
  • 2篇王永茹
  • 2篇邢廷文
  • 2篇潘丽
  • 1篇张福甲
  • 1篇王长涛
  • 1篇高洪涛
  • 1篇张磊
  • 1篇陈波
  • 1篇邱传凯

传媒

  • 3篇光电工程
  • 1篇光子学报
  • 1篇飞通光电子技...
  • 1篇第五届全国光...

年份

  • 2篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 2篇2007
  • 4篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇2001
18 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
SU-8光刻胶制作三维光子晶体被引量:2
2007年
针对SU-8光刻胶应用于三维光子晶体的制作研究,本文提出并实现了对SU-8光刻胶的重要成分SU-8环氧树脂采用柱层析和高压液相色谱-尺寸排阻色谱法进行分离,分离结果表明SU-8环氧树脂分子量分布范围很大,从大约100~100000,包括SU-1、SU-2、SU-4、SU-6、SU-8多种组分及其混合物.采用分离后的SU-8和SU-6纯组分配制了性能优化的SU-8光刻胶,并总结了其最佳光刻工艺,结合干涉光刻技术制作了晶格常数为922nm的三维面心立方光子晶体结构.
张晓玉高洪涛周崇喜刘强邢廷文姚汉民
关键词:SU-8光刻胶三维光子晶体柱层析
含有缩微文字的微型防伪金属片
含有缩微文字的微型防伪金属片,首先采用镀膜技术在基片上制作金属薄膜,然后采用微光刻技术在金属薄膜上制作缩微文字及外形图案,并将金属薄膜从基片上剥离下来,成为含有缩微文字并具有外形图案的微型防伪金属片。微型防伪金属片上的缩...
侯德胜刘强赵泽宇
文献传递
一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法
一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法:在基底表面蒸镀与基底黏结能力较弱的金属膜层,并在其表面制作目标微纳结构;将PDMS与固化剂进行混合,并浇铸于金属膜层表面;在25-95℃的环境中固化,形成弹性膜;掀起PDM...
杜春雷罗先刚董小春刘强
文献传递
一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法
一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法:在基底表面蒸镀与基底黏结能力较弱的金属膜层,并在其表面制作目标微纳结构;将PDMS与固化剂进行混合,并浇铸于金属膜层表面;在25-95℃的环境中固化,形成弹性膜;掀起PDM...
杜春雷罗先刚董小春刘强
文献传递
一种基于微透镜阵列的连续面形微结构成形方法
一种基于微透镜阵列的连续面形微结构成形方法:(1)在基底表面涂覆光刻胶;(2)将基底的光刻胶面和掩模图形分别放置于微透镜阵列的像面和物面处;(3)在掩模图形上方放置毛玻璃,并利用光源照射毛玻璃产生散射光,作为掩模图形的曝...
杜春雷董小春刘强邓启凌
文献传递
采用微光刻技术制作缩微汉字的方法
采用微光刻技术制作缩微汉字的方法,利用微光刻技术中的光刻掩模制作工艺,首先通过计算机输入汉字,再用光刻掩模制版设备将缩微汉字图案曝光到匀胶铬版上,然后经过显影、腐蚀、去胶等工艺,在铬版上形成缩微汉字图案。此技术突破了现有...
侯德胜赵泽宇刘强
文献传递
缩微文字平板放大镜
缩微文字平板放大镜,由透明基板上的微透镜阵列构成,能够对排列成阵列状态的缩微文字及图案进行放大。将缩微文字平板放大镜叠放在制作有缩微文字或图案阵列的图案上,转动观察,能够见到缩微文字或图案被连续变倍放大的现象,能够清楚放...
侯德胜赵泽宇刘强
文献传递
缩微文字平板放大镜
缩微文字平板放大镜,由透明基板上的微透镜阵列构成,能够对排列成阵列状态的缩微文字及图案进行放大。将缩微文字平板放大镜叠放在制作有缩微文字或图案阵列的图案上,转动观察,能够见到缩微文字或图案被连续变倍放大的现象,能够清楚放...
侯德胜赵泽宇刘强
文献传递
一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法被引量:1
2001年
提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面都大大地优于传统的蚀刻方法 .本文通过对比预曝光蚀刻法与常用的几种蚀刻方法 ,详尽的阐述了预曝光蚀刻法的原理及优点 ,为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础 .
董小春杜春雷陈波潘丽王永茹刘强
关键词:微光学元件
双光子吸收材料的合成和性能表征
合成了三种应用于双光子三维全息光刻技术的双光子吸收材料, 2,6-bis(4-(bis(4-tert-butylphenyl)amino)benzylidene)-1,3,5,7-s-hydrinacen trone (...
张晓玉王长涛周崇喜刘强占胜龙杜春雷邢廷文姚汉民
关键词:摩尔吸光系数荧光淬灭量子产率
文献传递
共2页<12>
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