公共文化服务平台

共 7 条记录，以下是 1-7

全选清除导出

排序方式：

一种耐磨二硫化钨薄膜的制备方法: 一种耐磨二硫化钨薄膜的制备方法，包括如下步骤：(1)对单晶硅片进行前处理，使其表面清洁、粗糙度不高于Ra 0.1；将石墨靶、WS2靶和前处理后的单晶硅片装入多靶磁控溅射沉积室，将沉积室的气压抽至1....; 郑晓华杨芳儿沈靖枫徐秉政李昂鲁叶

一种耐磨二硫化钨薄膜的制备方法: 一种耐磨二硫化钨薄膜的制备方法，包括如下步骤：(1)对单晶硅片进行前处理，使其表面清洁、粗糙度不高于Ra 0.1；将石墨靶、WS2靶和前处理后的单晶硅片装入多靶磁控溅射沉积室，将沉积室的气压抽至1....; 郑晓华杨芳儿沈靖枫徐秉政李昂鲁叶; 文献传递

不同调制周期WS_x/a-C多层膜的组织结构及摩擦学特性被引量：3: 2016年; 采用磁控溅射法交替溅射WS2和石墨靶制备周期为4~23 nm的WSx/a-C纳米多层膜。采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子谱(XPS)等分析薄膜的组织结构和元素的化学价态;采用纳米压痕仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试薄膜的硬度、结合力和在潮湿大气下(相对湿度70%)的摩擦磨损特性。结果表明:多层膜结构致密,表面平整。a-C的加入改变WS2的结晶状态,多层膜为微晶或非晶结构;随着调制周期的增大,多层膜的硫与钨摩尔比逐渐降低并趋于稳定(约为1.32),其硬度稍有上升,而结合力明显降低,摩擦因数由0.32降至0.26,而磨损率逐渐上升但显著低于纯WSx膜的。调制周期为4 nm的多层膜的耐磨性能最佳,磨损率约为1.03×10-13 m3·N-1·m-1。; 杨芳儿史玉龙章荣沈淑康鲁叶郑晓华; 关键词：多层膜调制周期磨损

一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法: 本发明公开了一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法，制备方法主要包括：(1)对基体进行前处理，使其表面清洁、光滑；(2)在多靶磁控溅射沉积系统中安装WS2靶、石墨靶和前处理后的基体，并将沉积...; 郑晓华林玲玲杨芳儿鲁叶常新新王贡启王贵葱

调制比对WS_x/a-C多层膜微观组织及摩擦学性能的影响被引量：5: 2017年; 采用磁控溅射交替溅射WS2和石墨靶,在200℃的Si基体上制备了不同调制比的WS_x/a-C多层膜(调制周期约为20 nm).利用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子谱(XPS)等手段表征了多层膜的微观结构;采用纳米压痕仪、薄膜应力测试仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试多层膜的机械性能及大气中的的摩擦磨损性能.结果表明:WS_x/a-C多层膜表面平整、结构致密,S/W比在0.92~0.97范围内波动,WS_x子层以微晶的形式存在,WS_x/a-C相界面处形成了WC相.随着调制比的增加,多层膜的硬度由7.8 GPa升高至9.0GPa,膜内压应力先减小后增大,结合力单调减小,摩擦系数由0.18增至0.29,磨损率迅速升高.调制比为1∶39的多层膜的摩擦学性能最佳,其磨损率约为6.1×10^(–15) m^3/(N·m).; 杨芳儿鲁叶李昂沈靖枫郑晓华; 关键词：A-C 多层膜摩擦磨损性能磁控溅射

不同调制比WS2/C多层膜的结构及机械性能: 层状结构的WS2在真空环境下具有摩擦系数低、耐磨性能好等优点，因此被广泛应用于机械加工和航天航空等领域中。但是纯WS2薄膜结构疏松、硬度低、结合力差，在潮湿大气中容易氧化潮解，从而限制了其实际应用。为了改善WS2薄膜在潮...; 鲁叶; 关键词：碳元素机械性能; 文献传递

一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法: 本发明公开了一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法，制备方法主要包括：(1)对基体进行前处理，使其表面清洁、光滑；(2)在多靶磁控溅射沉积系统中安装WS2靶、石墨靶和前处理后的基体，并将沉积...; 郑晓华林玲玲杨芳儿鲁叶常新新王贡启王贵葱; 文献传递

全选清除导出

共1页<1>

鲁叶