史玉龙
- 作品数：4 被引量：7H指数：2
- 供职机构：浙江工业大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：浙江省自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程一般工业技术电子电信更多>>
- 不同调制周期WSx/a-C纳米多层膜的组织结构及环境摩擦学特性
- 磁控溅射镀膜技术是实验室中最常用的镀膜技术。WS2作为固体润滑剂因摩擦系数低、工作温度高以及耐磨性能好等优点,被广泛应用于真空设备及空间技术领域。然而如何提高WS2在潮湿环境的耐磨性一直是国内外研究热点。针对这一问题,本...
- 史玉龙
- 关键词：调制周期纳米多层膜磨损
- 文献传递
- ATO粉体的水基溶胶-凝胶法合成工艺研究被引量：2
- 2016年
- 采用水基溶胶-凝胶法合成了锑掺杂二氧化锡(ATO)粉体。采用X射线衍射(XRD)、能谱仪(EDS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)以及X射线光电子谱(XPS)对粉体进行了表征,探讨了ATO溶胶的制备工艺以及锡锑摩尔比(n_(Sn)/n_(Sb))对溶胶粒度和烧结粉体的形貌与物相的影响。结果表明:溶胶合成的较优条件为溶胶浓度=0.1 mol/L,水浴温度=50℃,p H=7,n_(Sn)/n_(Sb)=90/10。锡锑摩尔比对粉体的物相结构无影响。ATO粉体在n_(Sn)/n_(Sb)低于95/5时出现球形及棒状形态,其中Sn元素与Sb元素分别以Sn^(4+)、Sb^(5+)和Sb^(3+)的形式固溶于粉体中。
- 沈淑康杨芳儿郑晓华张玲洁史玉龙
- 关键词：掺锑氧化锡溶胶-凝胶法电接触材料
- 不同调制周期WS_x/a-C多层膜的组织结构及摩擦学特性被引量：3
- 2016年
- 采用磁控溅射法交替溅射WS2和石墨靶制备周期为4~23 nm的WSx/a-C纳米多层膜。采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子谱(XPS)等分析薄膜的组织结构和元素的化学价态;采用纳米压痕仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试薄膜的硬度、结合力和在潮湿大气下(相对湿度70%)的摩擦磨损特性。结果表明:多层膜结构致密,表面平整。a-C的加入改变WS2的结晶状态,多层膜为微晶或非晶结构;随着调制周期的增大,多层膜的硫与钨摩尔比逐渐降低并趋于稳定(约为1.32),其硬度稍有上升,而结合力明显降低,摩擦因数由0.32降至0.26,而磨损率逐渐上升但显著低于纯WSx膜的。调制周期为4 nm的多层膜的耐磨性能最佳,磨损率约为1.03×10-13 m3·N-1·m-1。
- 杨芳儿史玉龙章荣沈淑康鲁叶郑晓华
- 关键词：多层膜调制周期磨损
- 不同层厚比WS_x/a-C多层膜的组织结构与摩擦学特性被引量：4
- 2016年
- 利用磁控溅射法在单晶硅上制备了不同层厚比的WS_x/a-C纳米多层膜(调制周期约50 nm)。用扫描电镜、X射线衍射、能谱、X射线光电子谱和Raman光谱对薄膜的形貌、成分和组织结构等进行了表征。采用纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦仪测试了薄膜的硬度、结合力和在大气环境下(相对湿度约70%)的摩擦学性能。结果表明:随着层厚比L_(a-C)/L_(WS_x)的增加,多层膜的n_s/n_w比由1.38增大至1.62,并伴随着WS_2尺寸的减小以及薄膜致密度和平整度的提高,a-C层和WS_x层的结构无明显变化;多层膜的磨损率仅为纯WS_x膜的1/3~1/4,摩擦因数由0.26降至0.2,硬度和磨损率均出现峰值,而结合力呈相反变化趋势。层厚比L_(a-C)/L_(WS_x)为1:39的多层膜的摩擦因数为0.26,磨损率为9.8×10^(-14)m^3/Nm,耐磨性最佳。
- 郑晓华章荣史玉龙沈靖枫李昂杨芳儿
- 关键词：A-C多层膜磁控溅射
