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田军

作品数：14 被引量：7H指数：2
供职机构：河北工业大学更多>>
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相关领域：电子电信金属学及工艺自动化与计算机技术化学工程更多>>

合作作者

领域

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机构

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地区

  • 7个天津市
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共 9 条 记 录，以下是 1-9
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐文栋
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 硬盘基板 化学机械抛光 粗糙度 浆料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王立发
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 硬盘基板 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张国玲
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 超精密加工 粗糙度 MG(OH)2 CACO3
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙鸣
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
檀柏梅
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宁培桓
供职机构：河北工业大学信息工程学院
研究主题：SI 硅晶片 单晶片 黏度 切削液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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