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洪姣

作品数：10 被引量：15H指数：3
供职机构：河北工业大学更多>>
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合作作者

领域

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主题

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  • 23个化学机械抛光
  • 23个机械抛光
  • 23个CMP
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机构

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资助

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传媒

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地区

  • 20个天津市
  • 4个河北省
共 24 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王娟
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 硅溶胶 抛光液 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高宝红
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 CMP 化学机械抛光 铜布线 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙鸣
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐继英
供职机构：河北工业大学
研究主题：ARM BOOTLOADER UCLINUX S3C44B0 S3C4480
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李月
供职机构：河北工业大学
研究主题：碱性抛光液 钽 阻挡层 电偶腐蚀 透射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李祥州
供职机构：河北工业大学
研究主题：碱性抛光液 阻挡层 CMP 电偶腐蚀 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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