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胡红梅
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供职机构:
上海集成电路研发中心
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自动化与计算机技术
电子电信
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合作作者
李铭
上海集成电路研发中心
袁伟
上海集成电路研发中心
卢意飞
上海集成电路研发中心
朱骏
上海集成电路研发中心
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袁伟
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:光刻 光刻机 光刻工艺 光刻版 硅片
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卢意飞
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:通孔 介质层 光刻 晶圆 量测数据
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相关人物
供职机构
所获资助
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李铭
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:淀积 光刻 刻蚀 衬底 介质层
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相关人物
供职机构
所获资助
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朱骏
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:淀积 刻蚀 光敏材料 光刻胶 抗反射
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