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佟丽英

作品数：31 被引量：33H指数：4
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
发文基金：国家部委资助项目国防基础科研计划更多>>
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合作作者

领域

  • 35个电子电信
  • 12个金属学及工艺
  • 7个理学
  • 6个机械工程
  • 6个电气工程
  • 5个自动化与计算...
  • 4个化学工程
  • 3个一般工业技术
  • 3个文化科学
  • 2个冶金工程
  • 2个建筑科学
  • 2个航空宇航科学...
  • 1个水利工程

主题

  • 25个单晶
  • 15个晶片
  • 15个硅单晶
  • 14个硅片
  • 13个单晶片
  • 13个半导体
  • 13个锗
  • 12个抛光
  • 12个抛光片
  • 11个锗单晶
  • 11个磷化铟
  • 10个砷化镓
  • 10个晶向
  • 9个电阻率
  • 9个均匀性
  • 6个单晶硅
  • 6个载流子
  • 5个电池
  • 5个电子能
  • 5个电子能谱

机构

  • 24个中国电子科技...
  • 9个中国电子科技...
  • 4个中电集团
  • 2个天津大学
  • 2个西安电子科技...
  • 1个电子科技大学

资助

  • 3个国家高技术研...
  • 3个国家科技部专...
  • 2个国家自然科学...
  • 1个国防基础科研...
  • 1个国防科技技术...
  • 1个国家重点基础...
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  • 1个天津市自然科...
  • 1个国家部委资助...
  • 1个国家重点实验...
  • 1个陕西省自然科...
  • 1个中央高校基本...

传媒

  • 22个半导体技术
  • 19个电子工业专用...
  • 10个天津科技
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  • 8个微纳电子技术
  • 5个中国电子科学...
  • 3个材料导报
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  • 2个中国科技博览
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  • 1个电子科技
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  • 1个物理学报
  • 1个合肥工业大学...

地区

  • 23个天津市
  • 8个北京市
  • 2个陕西省
共 36 条 记 录，以下是 1-10
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 锗单晶 晶片 抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史继祥
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：少子寿命 电阻率 硼 晶向 Γ辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高丹
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：抛光片 腐蚀坑 硅单晶 画格 金相显微镜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王聪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硼 扩散 AL 染色液 P
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：LPCVD 封片 二氧化硅 低压化学气相淀积 沉积温度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕菲
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 晶片 清洗工艺 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 锗 单晶片 晶片 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 抛光液 抛光 砷化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张继荣
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 电阻率 少子寿命 DLY 校准方法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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