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王云彪

作品数：19 被引量：37H指数：4
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
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相关领域：电子电信更多>>

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地区

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共 20 条 记 录，以下是 1-10
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅单晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
耿莉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 超薄 表面粗糙度 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈亚楠
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光 清洗技术 硅抛光片 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕菲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 抛光片 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭亚坤
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 超薄 稳定性 平坦度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
武永超
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：超薄 化学机械抛光 半导体行业 激光技术 激光打标
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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