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王煜

作品数：13 被引量：4H指数：2
供职机构：北京大学更多>>
发文基金：北京市自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术环境科学与工程理学更多>>

合作作者

领域

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  • 8个自动化与计算...
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主题

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  • 10个反应离子刻蚀
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机构

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资助

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  • 7个国家重点基础...
  • 5个国家自然科学...
  • 4个国家高技术研...
  • 3个教育部科学技...
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  • 2个中国科学院知...
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  • 1个国防科技重点...
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传媒

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地区

  • 11个北京市
共 11 条 记 录，以下是 1-10
张国炳
供职机构：北京大学
研究主题：硅化物 多晶硅 离子注入 微机电系统 MEMS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田大宇
供职机构：北京大学
研究主题：刻蚀 探测器 硅 离子注入 成品率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张海霞
供职机构：北京大学
研究主题：发电机 电极 MEMS 反应离子刻蚀 摩擦式
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李志宏
供职机构：北京大学
研究主题：电极 微针 针尖 微机电系统 芯片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭辉
供职机构：北京大学信息科学技术学院
研究主题：MEMS SIC 谐振器 碳化硅 操作系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李志宏
供职机构：北京大学信息科学技术学院
研究主题：MEMS 硅 VLSI 微机电系统 微电子机械系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭辉
供职机构：北京大学
研究主题：微机电系统 测地线 MEMS TEICHMULLER空间 可积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李素兰
供职机构：北京大学
研究主题：残余应力 SIC薄膜 压强 反应离子刻蚀 功率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晟
供职机构：北京大学
研究主题：反应离子刻蚀 功率 氢含量 压强 PECVD
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郝一龙
供职机构：北京大学
研究主题：MEMS 微机电系统 硅 微电子机械系统 英文
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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