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吕菲

作品数：15 被引量：40H指数：4
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 29个电子电信
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  • 2个环境科学与工...
  • 2个文化科学
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主题

  • 22个单晶
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  • 17个硅
  • 16个抛光片
  • 16个晶片
  • 16个锗
  • 15个面粗糙度
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  • 15个表面粗糙度
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  • 12个硅片
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  • 11个化学腐蚀
  • 11个化学机械抛光
  • 11个机械抛光
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  • 9个清洗技术
  • 9个磷化铟

机构

  • 29个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
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  • 1个天津大学
  • 1个电子部
  • 1个中国人民政治...

资助

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  • 3个天津市自然科...
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  • 1个博士后科研启...
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传媒

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  • 6个中国电子科学...
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  • 2个电源技术
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地区

  • 27个天津市
  • 1个江苏省
  • 1个北京市
共 29 条 记 录，以下是 1-10
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
耿博耘
供职机构：中国电子科技集团
研究主题：数值模拟 加热器 对比性实验 薄型 保温
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于妍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学腐蚀 粗糙度 硅单晶 腐蚀速率 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
秦学敏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学腐蚀 粗糙度 光洁度 单晶片 特性分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
莫宇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 硅片 清洗液 粗糙度 超声波清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵秀玲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 光洁度 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周传月
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 半导体 单晶炉 太阳能级 适应性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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