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王大平

作品数:11 被引量:3H指数:1
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺更多>>

领域

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机构

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传媒

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地区

  • 14个重庆市
14 条 记 录,以下是 1-10
吴建
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:多晶硅 氧化层 牺牲层 微电子机械系统 淀积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
梁涛
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:半导体工艺 掺杂 硅片表面 镜检 硫酸铈
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冯建
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:多晶硅 SOI 键合 氧化层 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王守祥
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:硅渣 工艺波动 刻蚀设备 镜检 等离子体刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王斌
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:VDMOS 半导体工艺 牺牲层 高强度气体放电灯 电子镇流器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐昭焕
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:半导体 深槽 功率VDMOS器件 功率MOSFET器件 导电类型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谭开洲
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:半导体 深槽 VDMOS 半导体器件 导电类型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张正元
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:微电子机械系统 硅薄膜 多晶硅 电路 键合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱煜开
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:单芯片 夹具 金属工艺 氧化物 欧姆接触
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈俊
供职机构:中国电子科技集团第二十四研究所
研究主题:SOI 半导体集成电路 恒定跨导 集成电路 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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