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马锁辉

作品数:3 被引量:13H指数:3
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金:国家中长期科技发展规划重大专项河北省自然科学基金河北省教育厅科研基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

领域

  • 9个电子电信
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主题

  • 9个阻挡层
  • 8个去除速率
  • 8个化学机械抛光
  • 8个机械抛光
  • 7个铜布线
  • 7个抛光液
  • 7个平坦化
  • 7个碱性抛光液
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  • 6个碟形
  • 6个多胺
  • 6个抛光
  • 5个电路
  • 5个选择性
  • 5个速率
  • 4个单因素
  • 4个钝化层
  • 3个低压
  • 3个电偶
  • 3个电偶腐蚀

机构

  • 9个河北工业大学
  • 1个河北工学院
  • 1个中国电子科技...
  • 1个中国电子科技...
  • 1个中国人民政治...

资助

  • 8个国家中长期科...
  • 8个河北省自然科...
  • 7个国家科技重大...
  • 5个国家自然科学...
  • 4个天津市自然科...
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  • 3个博士科研启动...
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传媒

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  • 2个清洗世界
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  • 1个粉末冶金技术
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  • 1个技术与市场
  • 1个电机与控制学...
  • 1个电镀与精饰
  • 1个半导体情报

地区

  • 7个天津市
  • 2个河北省
9 条 记 录,以下是 1-9
王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高娇娇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 化学机械抛光 碱性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曹阳
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械平坦化 碟形 铜布线 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
岳红维
供职机构:中国电子科技集团第五十四研究所
研究主题:化学机械平坦化 CMP 铜布线 铜 测试仪器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蔡婷
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP TSV 化学机械平坦化 多胺 络合剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨琰
供职机构:河北工业大学信息工程学院
研究主题:CMP TSV TI/CU 碱性抛光液 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王伟超
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 铜 化学机械抛光 漏电流 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共1页<1>
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