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洪颖

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
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合作作者

领域

  • 6个电子电信
  • 3个理学
  • 2个化学工程
  • 2个机械工程
  • 2个电气工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个一般工业技术

主题

  • 6个氮掺杂
  • 6个英寸
  • 6个空位
  • 5个单晶
  • 5个单晶材料
  • 5个低阻
  • 5个碳化硅
  • 4个碳化硅单晶
  • 4个抛光片
  • 4个显示器
  • 4个显示器件
  • 3个单晶生长
  • 3个氮化
  • 3个氮化镓
  • 3个电阻率
  • 3个载流子
  • 3个载流子浓度
  • 3个籽晶
  • 2个单晶片
  • 2个氮化铝

机构

  • 6个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
  • 1个电子工业部
  • 1个中华人民共和...

资助

  • 2个国家自然科学...
  • 1个国家高技术研...

传媒

  • 6个中国电子科学...
  • 4个半导体技术
  • 3个现代仪器
  • 1个分析化学
  • 1个化学与粘合
  • 1个半导体情报
  • 1个Chines...
  • 1个硅酸盐学报
  • 1个分析测试学报
  • 1个液晶与显示
  • 1个兵器材料科学...
  • 1个电子工业专用...
  • 1个压电与声光
  • 1个微纳电子技术
  • 1个现代仪器与医...
  • 1个第八届全国固...
  • 1个化学与物理电...
  • 1个2013‘全...
  • 1个第五届华北、...
  • 1个第三届全国电...

地区

  • 4个北京市
  • 2个天津市
共 6 条 记 录，以下是 1-6
王利杰
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：晶体生长 感应线圈 晶体生长过程 籽晶 碳化硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郝建民
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：6H-SIC 碳 氮掺杂 空位 英寸
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
齐海涛
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：坩埚 钨 单晶片 氮化铝 籽晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冯玢
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SIC 碳化硅 碳化硅单晶 半绝缘 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
严如岳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：氮化物 XPS XPS研究 衬底 砷化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王香泉
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：碳化硅 碳化硅单晶 籽晶 半绝缘 英寸
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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