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孙小松

作品数:23 被引量:58H指数:3
供职机构:四川大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:四川省应用基础研究计划项目国家自然科学基金“九五”国家科技攻关计划更多>>
相关领域:电子电信理学电气工程文化科学更多>>

文献类型

  • 16篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 10篇电子电信
  • 4篇理学
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 7篇纳米
  • 5篇发光
  • 5篇SI基
  • 4篇光谱
  • 4篇光学
  • 3篇形貌
  • 3篇氧化锌
  • 3篇荧光
  • 3篇光致
  • 3篇光致发光
  • 3篇LPCVD
  • 2篇单晶
  • 2篇电化学
  • 2篇电化学沉积
  • 2篇多孔硅
  • 2篇荧光光谱
  • 2篇射线
  • 2篇凝胶法制备
  • 2篇自组装
  • 2篇纳米粉

机构

  • 19篇四川大学
  • 5篇重庆光电技术...

作者

  • 19篇孙小松
  • 14篇龚敏
  • 11篇杨治美
  • 9篇晋勇
  • 6篇刘俊刚
  • 5篇张云森
  • 5篇焦志峰
  • 4篇廖熙
  • 4篇余洲
  • 4篇杨翰飞
  • 4篇何毅
  • 4篇罗建勇
  • 4篇陈寰
  • 3篇陈浩
  • 3篇姜龙
  • 2篇王帅
  • 2篇曾天
  • 2篇孙丛立
  • 2篇冯欢欢
  • 2篇李智伟

传媒

  • 9篇半导体光电
  • 3篇四川大学学报...
  • 3篇光散射学报
  • 1篇教育科学论坛
  • 1篇第十五届全国...

年份

  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 3篇2011
  • 2篇2010
  • 4篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2000
  • 1篇1990
23 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
CdTe太阳能电池研究进展被引量:26
2000年
详细叙述了制备CdTe基太阳能电池的各种技术及其特点、沉积后热处理工艺、背电极工艺及CdTe基太阳电池的研究进展 ;重点讨论了近空间升华技术、氯化物热处理工艺、ZnTe :Cu背电极技术。介绍CdTe基太阳电池的应用前景 ,以及存在的问题和解决的途径。
张静全蔡伟郑家贵黎兵孙小松蔡亚平冯良桓
关键词:太阳能电池CDTE氯化物
Si基3C-SiC薄膜的LPCVD反向外延研究被引量:2
2010年
采用低压化学气相淀积(LPCVD)技术,以CH_4和H_2的混合气体作为反应源气体,在n型Si(111)衬底上反向外延生长出高迁移率的自掺杂的n型3C-SiC薄膜.在此反应过程中,H_2作为稀释与运载气体,CH_4提供C源,而Si源由Si衬底提供.通过X射线衍射分析仪(XRD)与场发射扫描电镜(FESEM)分别研究生长出的3C-SiC薄膜的晶格结构和表面形貌.其在室温下的霍尔迁移率的值为1.22×10~3cm^2/(V·s),高于其它相关文献报道的霍尔迁移率.实验结果表明,此生长方法可以生长出表面较为平整,并具备高迁移率的3C-SiC薄膜.
廖熙杨治美杨翰飞龚敏孙小松
关键词:表面碳化
催化剂辅助化学气相沉积法制备准单晶ZnO纳米线被引量:7
2005年
利用Au催化辅助化学气相沉积生长技术,在nSi(111)衬底上制备了准单晶的ZnO纳米线。X射线衍射分析的结果表明,ZnO纳米线具有明显的沿(0001)方向定向生长的特征。扫描电子显微镜分析表明,ZnO纳米线的典型直径约为100nm,长度为2~5μm。讨论了Au催化辅助化学气相沉积生长技术制备ZnO纳米线的原理。
孙小松余洲王帅杨治美晋勇何毅杨文彬龚敏
关键词:ZNO纳米线化学气相沉积XRDSEM
聚合物包覆的氧化锌纳米晶体的制备和表面标定(英文)被引量:2
2008年
纳米晶体的性质不仅由表面原子所占的大的组分决定,而且由晶粒表面的晶相结构决定,因此对纳米晶体的表面的晶相结构的了解是很有必要的.氧化锌具有独特的物理和化学性质,所以它被认为是一种比较有应用前景的3维有序组装结构的基本构造单元.利用胶体化学法和尺寸选择制备了4~5nm大小的PVP包覆的氧化锌纳米晶体.用X射线衍射(XRD),高分辨透射电镜(MR-TEM),选区电子衍射(SAED),紫外可见吸收光谱(ABS)和荧光光谱(PL)对氧化锌的晶体结构和表面晶相结构进行表征,发现氧化锌晶体是结晶很好的红锌矿结构并且尺寸是单分散的.XRD,ABS和HR-TEM的测试结果都表明氧化锌晶体的尺寸是4.5nm.用HR-TEM和相应的傅立叶转换(FFT)对氧化锌的形貌和表面晶相进行研究,发现氧化锌晶体具有截角六面体形状,分别被{0001},{0110},和{0111}晶面包围.氧化锌的荧光光谱出现了两个典型的荧光发射,位置分别在362nm和527nm,来源于带边发射和缺陷发光.另外在400nm和470nm处也出现了弱的荧光发射,这可能与氧化锌的多面体形貌或者PVP的存在有关.
陈浩焦志峰伍展文余洲晋勇李智伟宋华冰何毅孙小松
关键词:氧化锌纳米晶体荧光光谱自组装
自组装制备硅纳米线阵列及其光致发光特性研究被引量:5
2009年
用微电化学催化腐蚀法制备了硅纳米线阵列,通过扫描电镜(SEM)观察了样品的表面形貌。用荧光光谱仪测量了有序硅纳米线阵列的光致发光特性,发现当激发波长增加时,有序硅纳米线阵列的光致发光峰位单调红移,发光强度也单调增强。对比多孔硅的发光机理和现有实验条件,对有序硅纳米线阵列可能的发光机理进行了讨论。
李智伟陈浩宋华冰余洲杨治美高艳丽张云森刘俊刚龚敏孙小松
关键词:多孔硅光致发光光谱扫描电镜发光机理
Si基3C-SiC反向外延的选择生长和残余应力研究被引量:2
2011年
采用一种新的LPCVD方法在Si衬底上通过SiO_2作为掩蔽层,进行3C-SiC的反向外延的选择性生长.TEM,AFM和XRD结果显示3 C-SiC沿(111)面成功实现了较高质量的外延选择生长,其界面清晰,掩蔽良好.生长出的3C-SiC薄膜为织构晶体,单晶性良好.残余应力测试表明3C-SiC薄膜晶格发生压应变,选择性生长区域的残余应力显著降低.据此结果建立了残余应力的形成机制.
杨翰飞杨治美廖熙龚敏孙小松
关键词:掩蔽层残余应力
一种新型硅基3C-SiC的生长方法及光谱学表征被引量:3
2009年
采用LPCVD技术,以CH4和H2混合气体为反应源气,在n-Si(111)衬底上生长3C-SiC晶体薄膜。H2在反应过程中作为稀释气体和运输气体,CH4作为碳源,硅源有衬底硅来提供。利用X射线衍射分析仪、场发射扫描电子显微镜、激光拉曼光谱和傅里叶变换红外光谱分别研究3C-SiC薄膜的晶相结构、表面形貌及其光谱性质。结果表明此生长方法可以成功的成长出3C-SiC薄膜。
程顺昌杨治美钟玉杰何毅孙小松龚敏
关键词:拉曼散射光谱傅里叶变换红外光谱
高分子网络凝胶法制备Eu∶YAG纳米粉体及其表征被引量:2
2014年
利用高分子网络凝胶法制备了Eu∶YAG纳米粉体,样品的性能通过热重-差热分析、X射线衍射分析、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、激发谱和发光光谱进行了表征。结果表明,Eu∶YAG纳米晶体的形成温度为900℃,比固相反应法低700℃;Eu∶YAG纳米粉体呈珊瑚虫状形貌,粒径大小为100-150nm;Eu∶YAG纳米粉体的荧光谱在594nm处出现最强发射峰,发光强度随着Eu3+浓度从1at.%增加至5at.%的过程而逐渐增强,在浓度继续由6at.%增加至8at.%的过程中出现了浓度猝灭现象,并讨论了引起该现象的机理原因。
罗建勇陈寰姜龙孙玉阳曾天晋勇焦志峰龚敏刘俊刚孙小松
关键词:形貌发光
Si基“反向外延”3C-SiC单晶薄膜及其制备方法
本发明涉及一种Si基上碳往Si中扩散,并与Si反应形成Si基上“反向外延”生长的立方碳化硅(3C-SiC)单晶薄膜及其制备方法,属于Si基新型宽禁带半导体材料制作领域。该方法是采用低压化学气相沉积法,简称LPCVD,在高...
杨治美龚敏孙小松
文献传递
MCZ硅单晶中微缺陷的X射线衍射动力学理论统计方法的研究
孙小松
共2页<12>
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