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李小换

作品数:4 被引量:9H指数:2
供职机构:北京工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金北京市教委科技发展计划北京市教育委员会科技发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇ZNO薄膜
  • 3篇溅射
  • 3篇ALN
  • 3篇衬底
  • 2篇SI衬底
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇氧缺陷
  • 1篇射频溅射
  • 1篇声表面波
  • 1篇ZNO
  • 1篇ALN薄膜
  • 1篇场发射
  • 1篇衬底温度

机构

  • 4篇北京工业大学

作者

  • 4篇李小换
  • 3篇严辉
  • 3篇朱满康
  • 2篇黄安平
  • 2篇冷杉
  • 2篇王波
  • 1篇王波
  • 1篇侯育冬
  • 1篇王磊
  • 1篇王磊

传媒

  • 1篇功能材料
  • 1篇压电与声光

年份

  • 3篇2004
  • 1篇2003
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
AlN/Si衬底上ZnO薄膜的择优取向生长
当ZnO薄膜直接沉积在Si衬底上时,由于ZnO与Si的晶格失配度大,不易于获得高质量的ZnO薄膜.因此,选择合适的村底材料沉积ZnO薄膜,对提高其质量非常重要.本文采用射频磁控溅射法,通过在Si(100)衬底上预沉积Al...
王磊冷杉王波黄安平李小换朱满康严辉
关键词:ZNO薄膜磁控溅射
文献传递
ZnO和AlN薄膜结构及其性能的研究
该文采用磁控溅射方法制备出高质量的ZnO和AlN薄膜,用XRD、SEM、XPS、AFM和红外、紫外分光光度计等测试手段对沉积的薄膜进行了表征.结果表明,对于ZnO薄膜,薄膜的择优取向性与衬底温度、溅射气压、靶基距等工艺参...
李小换
关键词:ZNO薄膜ALN薄膜声表面波场发射
文献传递
AlN/Si衬底上ZnO薄膜的择优取向生长
2004年
当ZnO薄膜直接沉积在Si衬底上时,由于ZnO与Si的晶格失配度大,不易于获得高质量的ZnO薄膜.因此,选择合适的衬底材料沉积ZnO薄膜,对提高其质量非常重要.本文采用射频磁控溅射法,通过在Si(100)衬底上预沉积AlN作为ZnO薄膜生长的缓冲层,获得了择优取向的ZnO薄膜.我们还讨论了ZnO薄膜在AlN/Si衬底上的取向生长机理.
王磊冷杉王波黄安平李小换朱满康严辉
关键词:ZNO薄膜磁控溅射
衬底温度对ZnO薄膜氧缺陷的影响被引量:6
2004年
采用射频磁控溅射在石英玻璃和单晶硅Si(100)衬底上制备了ZnO薄膜,研究了衬底温度对ZnO薄膜中氧缺陷的影响。实验发现,ZnO薄膜c轴取向性随温度的升高而增强;当衬底温度达到550°C时,XRD谱上仅出现一个强的(002)衍射峰和一个弱的(004)衍射峰,显示ZnO具有优异c轴取向性。同时,随着温度的升高,ZnO薄膜的紫外透射截止边带向高波长方向漂移,其电导率也随衬底温度的升高逐渐增大,表明薄膜中的氧缺陷逐渐增多。这种氧缺陷是由于ZnO的氧平衡分压高于Zn所致,可通过提高溅射气体中氧含量来改善。
李小换朱满康侯育冬王波严辉
关键词:ZNO薄膜射频溅射衬底温度氧缺陷
共1页<1>
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