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刘志明

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:北京工业大学更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇国内会议论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇钝化层
  • 2篇应力
  • 2篇屈服应力
  • 2篇铝膜
  • 1篇电路
  • 1篇集成电路

机构

  • 2篇北京工业大学

作者

  • 2篇付厚奎
  • 2篇刘志明
  • 2篇李志国
  • 2篇吉元
  • 2篇吴月花

传媒

  • 1篇2005第十...

年份

  • 2篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
钝化层对铝膜应力影响的研究
用有限元法对不同钝化层的铝膜进行了应力模拟,同时采用光偏振相移干涉原理对硅基片上不同钝化层下的铝膜应力交化进行了研究。研究表明:不同的钝化层对铝膜的应力影响不同。钝化层为SiO2的应力最小,且分布较为均匀,而钝化层为聚酰...
吴月花付厚奎李志国吉元刘志明
关键词:钝化层屈服应力应力
文献传递
钝化层对铝膜应力影响的研究
本文用有限元法对不同钝化层的铝膜进行了应力模拟,同时采用光偏振相移干涉原理对硅基片上不同钝化层下的铝膜应力变化进行了研究.研究表明:不同的钝化层对铝膜的应力影响不同.钝化层为SiO2的应力最小,且分布较为均匀,而钝化层为...
吴月花付厚奎李志国吉元刘志明
关键词:集成电路钝化层屈服应力
文献传递
共1页<1>
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