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李多力

作品数:112 被引量:19H指数:2
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术核科学技术文化科学更多>>

文献类型

  • 88篇专利
  • 22篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 38篇电子电信
  • 11篇自动化与计算...
  • 1篇电气工程
  • 1篇核科学技术
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 29篇电路
  • 20篇SOI
  • 18篇埋氧层
  • 15篇绝缘体上硅
  • 15篇隔离区
  • 13篇晶体管
  • 13篇沟道
  • 13篇半导体
  • 12篇源区
  • 12篇集成电路
  • 10篇接触区
  • 10篇静电放电
  • 10篇可控硅
  • 9篇接触孔
  • 9篇静电
  • 9篇静电保护
  • 9篇化物
  • 9篇硅化物
  • 8篇总剂量
  • 8篇绝缘层

机构

  • 112篇中国科学院微...
  • 5篇中国科学院
  • 4篇中国科学院大...
  • 1篇北方工业大学
  • 1篇中国空间技术...
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 112篇李多力
  • 100篇韩郑生
  • 72篇罗家俊
  • 63篇曾传滨
  • 41篇高林春
  • 41篇倪涛
  • 36篇闫薇薇
  • 26篇赵发展
  • 25篇卜建辉
  • 25篇海潮和
  • 17篇李博
  • 13篇李晶
  • 13篇刘海南
  • 9篇蔡小五
  • 7篇毕津顺
  • 6篇宿晓慧
  • 5篇吴峻峰
  • 5篇周小茵
  • 5篇赵立新
  • 4篇闫珍珍

传媒

  • 6篇半导体技术
  • 6篇Journa...
  • 4篇电子器件
  • 3篇功能材料与器...
  • 1篇物理学报
  • 1篇原子能科学技...
  • 1篇微电子学
  • 1篇第十四届全国...

年份

  • 4篇2024
  • 15篇2023
  • 18篇2022
  • 23篇2021
  • 8篇2020
  • 10篇2019
  • 2篇2018
  • 1篇2016
  • 1篇2013
  • 5篇2012
  • 2篇2010
  • 6篇2009
  • 3篇2008
  • 4篇2007
  • 4篇2006
  • 4篇2005
  • 2篇2004
112 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
基于BSIMIMG的FDSOI MOSFET模型生成方法及装置
本发明公开了一种基于BSIMIMG的FDSOI MOSFET模型生成方法及装置,应用于集成电路设计领域,包括:BSIMIMG背沟道器件模型和BSIMIMG正沟道器件模型,BSIMIMG背沟道器件模型以受控源形式合并至BS...
卜建辉王可为李多力李博李彬鸿刘海南罗家俊韩郑生
文献传递
高温对MOSFET ESD防护器件维持特性的影响
2022年
静电放电(electro-static discharge,ESD)防护结构的维持电压是决定器件抗闩锁性能的关键参数,但ESD器件参数的热致变化使得防护器件在高温环境中有闩锁风险.本文研究了ESD防护结构N沟道金属-氧化物-半导体(N-channel metal oxide semiconductor,NMOS)在30—195℃的工作温度下的维持特性.研究基于0.18μm部分耗尽绝缘体上硅工艺下制备的NMOS器件展开.在不同的工作温度下,使用传输线脉冲测试系统测试器件的ESD特性.实验结果表明,随着温度的升高,器件的维持电压降低.通过半导体工艺及器件模拟工具进行二维建模及仿真,提取并分析不同温度下器件的电势、电流密度、静电场、载流子注入浓度等物理参数的分布差异.通过研究以上影响维持电压的关键参数随温度的变化规律,对维持电压温度特性的内在作用机制进行了详细讨论,并提出了改善维持电压温度特性的方法.
李明珠蔡小五曾传滨李晓静李多力倪涛王娟娟韩郑生赵发展
关键词:静电放电金属-氧化物-半导体场效应晶体管高温
一种改善绝缘体上硅电路静电放电防护性能的方法
本发明涉及半导体技术领域,公开了一种改善SOI电路ESD防护性能的方法,该方法采用在SOI电路的体区进行ESD注入,改变SOI电路的ESD击穿电压,并促进ESD放电管之间以及ESD放电管内部各栅条之间在ESD电压到来时同...
曾传滨李多力李晶海潮和韩郑生
文献传递
一种体接触SOI MOS器件结构及形成方法
本发明公开了一种体接触SOI MOS器件结构及形成方法,该器件结构包括:位于SOI衬底顶层硅中的有源区、体引出区、刻蚀到顶层硅第一深度的部分浅槽隔离区、刻蚀到埋氧层的完全浅槽隔离区、以及位于顶层硅上方的栅极,有源区包括源...
王家佳李多力曾传滨罗家俊韩郑生
一种MOS器件及避免MOS器件寄生晶体管开启的方法
本发明提供一种MOS器件及避免MOS器件寄生晶体管开启的方法,包括:硅衬底、位于硅衬底上方的场氧区、有源区、阱区、体引出区、栅介质层及H型栅条;位于有源区边缘的场注入区;有源区包括源区、漏区以及沟道区,体引出区设置于H型...
高林春曾传滨李晓静闫薇薇李多力单梁钱频张颢译倪涛罗家俊韩郑生
文献传递
一种双极型晶体管及制备方法
本申请公开一种双极型晶体管及制备方法,涉及半导体技术领域,能够提高双极型晶体管的抗辐照性能。双极型晶体管包括:衬底片,所述衬底片包括至少两个掺杂区域;薄栅氧层,所述薄栅氧层设置在所述衬底片具有掺杂区域的一侧,且所述薄栅氧...
金美晨李晓静李多力蔡小五王士平赵发展韩郑生
一种新型静电防护方法
本申请实施例公开了一种新型静电防护方法,包括:将集成电路布设于第一芯片;将静电防护电路布设于第二芯片,静电防护电路包括:第一输入接出端口、第二输入接触端口、第一二极管、第一电阻、第一N型场效应管以及地端接出端口,还包括第...
李晓静曾传滨高林春倪涛王娟娟李多力闫薇薇单梁李明珠罗家俊赵发展韩郑生
文献传递
一种应用于深亚微米级电路静电防护的可控硅器件
本发明涉及可控硅静电保护技术领域,具体涉及一种应用于深亚微米级电路静电防护的可控硅器件。该结构中,N型阱区中的上部并排设置有第一N型重掺杂区和第一P型重掺杂区,以形成第一空白掺杂区;P型阱区中的上部并排设置有第二N型重掺...
曾传滨李晓静闫薇薇高林春倪涛单梁王加鑫李多力赵发展罗家俊韩郑生
文献传递
单个高能粒子离化电荷测试电路
本发明公开了一种单个高能粒子离化电荷测试电路,包括M个高能粒子捕获模块和M个信号探测模块,所述M个高能粒子捕获模块和所述M个信号探测模块一一对应,M为不小于2的正整数;所述高能粒子捕获模块包括N个并联的场效应晶体管,所述...
闫薇薇曾传滨高林春李晓静倪涛李多力罗家俊韩郑生
文献传递
一种串联SOI MOSFET器件结构及其制备方法
本发明公开了一种串联SOI MOSFET器件结构及其制备方法,包括:位于埋氧层上的半导体材料层和栅极,设置于串联器件的有源区与栅极相交的边缘,并沿栅极的宽度方向向两侧延伸的部分隔离区;设置于串联器件最外侧的浅槽隔离区;设...
李多力王家佳曾传滨罗家俊韩郑生
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