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张世恩

作品数：4 被引量：3H指数：1
供职机构：电子工业部更多>>
相关领域：电子电信经济管理更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇经济管理

主题

  • 2篇半导体
  • 2篇半导体设备
  • 1篇电子工业
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子技术
  • 1篇微细
  • 1篇微细加工
  • 1篇历史使命
  • 1篇晶片
  • 1篇晶片加工
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻技术
  • 1篇光学
  • 1篇光学光刻
  • 1篇光学光刻技术

机构

  • 2篇电子工业部
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇机电部

作者

  • 4篇张世恩
  • 3篇童志义
  • 1篇任继东

传媒

  • 4篇电子工业专用...

年份

  • 2篇1998
  • 1篇1992
  • 1篇1991
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
高速发展的光学光刻技术
1992年
光学光刻设备日益精进,相关技术不断革新,使光学曝光技术继续主宰九十年代的光刻设备市场。新颖的光学光刻设备仍将在进入本世纪末0.15微米1GDRAM极大规模时代扮演主要角色。本文将对光学微细技术不同发展阶段的主要技术进步和设备概况作以介绍,并对光学光刻设备的市场和今后的发展趋势作了分析。
张世恩童志义
关键词：光学光刻
光学微细加工技术的发展和我所的历史使命
1991年
光学微细加工技术的飞速发展 目前,世界微电子器件正朝着高集成化、高功能化和高可靠性的理想境界发展,不断缩小图形线宽,增大晶片尺寸,采用新的设计结构,从而导致微细加工设备更新速度加快。半导体工业的附加值和技术含量正不断移向微细加工领域,设备的作用越来越重要。
任继东张世恩
关键词：光学微细加工微电子技术
我国半导体设备现状及发展建议(续)被引量：2
1998年
我国半导体设备现状及发展建议（续）张世恩童志义（电子工业部第四十五研究所甘肃平凉７４４０００）２．３半导体设备发展的技术趋势晶片加工设备的设计和技术是靠微处理器和ＤＲＡＭ两种主要器件产品来推动的。这两种芯片产品是整个半导体工业技术进步之源，而且两者的...
张世恩童志义
关键词：半导体设备晶片加工
我国半导体设备现状及发展建议被引量：1
1998年
通过对半导体设备产业的特点、作用、地位及技术趋势的分析，根据我国半导体设备工业现状，提出了国内半导体设备产业的发展建议。
张世恩童志义
关键词：半导体设备电子工业
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