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修立松

作品数:12 被引量:22H指数:3
供职机构:中国科学院高能物理研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 8篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 5篇理学
  • 3篇机械工程
  • 2篇电子电信
  • 2篇电气工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇核科学技术

主题

  • 4篇射线衍射
  • 4篇X射线衍射
  • 3篇X射线
  • 2篇射线
  • 2篇铁电
  • 2篇铁电薄膜
  • 2篇同步辐射装置
  • 2篇北京同步辐射...
  • 2篇X射线衍射研...
  • 2篇MOCVD
  • 1篇调制
  • 1篇多层膜
  • 1篇衍射
  • 1篇衍射法
  • 1篇衍射仪
  • 1篇散射
  • 1篇势垒
  • 1篇数据获取
  • 1篇数据获取系统
  • 1篇双晶衍射

机构

  • 12篇中国科学院
  • 2篇南京大学
  • 1篇复旦大学
  • 1篇国家光电子工...

作者

  • 12篇修立松
  • 8篇姜晓明
  • 5篇郑文莉
  • 2篇蒋最敏
  • 2篇闵乃本
  • 2篇于涛
  • 2篇孙力
  • 2篇陈延峰
  • 1篇卢学坤
  • 1篇马宏骥
  • 1篇王玉田
  • 1篇贾全杰
  • 1篇何玮
  • 1篇张翔九
  • 1篇李大仕
  • 1篇杨小平
  • 1篇王迅
  • 1篇高振华
  • 1篇崔明启
  • 1篇江德生

传媒

  • 2篇物理学报
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇科学通报
  • 1篇高能物理与核...
  • 1篇物理
  • 1篇高压物理学报
  • 1篇电子显微学报
  • 1篇第一次两岸同...
  • 1篇第六届全国X...

年份

  • 1篇2002
  • 1篇1998
  • 1篇1997
  • 5篇1996
  • 2篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
金属有机化学气相沉积法制备钛酸铅铁电薄膜被引量:4
1996年
利用低压MOCVD工艺分别在(001)取向的LaAlO3,SrTiO3和重掺杂硅单晶衬底上制备PbTiO3铁电薄膜,并通过X射线衍射谱对薄膜的微结构进行分析.X射线θ-2θ扫描显示硅衬底上得到了PbTiO3多晶薄膜,另两种衬底上得到了择优取向的PbTiO3薄膜.LaAlO3衬底上的PbTiO3薄膜有a和c两个取向,也就是薄膜中存在着90°畴结构,而生长在SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜中只存在c方向的择优取向.由于薄膜的尺度效应,发现c轴晶格常数与块材相比均缩短.X射线的φ扫描验证了后两类薄膜的外延特性,利用同步辐射的高强度和高能量分辨率用摇摆曲线方法研究了这两种外延薄膜的品质,进一步证明了SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜的单畴特性.利用重掺杂的硅衬底作底电极。
孙力陈延峰于涛于涛姜晓明闵乃本
关键词:钛酸铅铁电薄膜MOCVD
同步辐射X射线衍射研究Si中δ掺杂(Sb)结构被引量:2
1996年
半导体中掺杂是控制半导体的光电性能的手段,杂质在半导体中的浓度和分布等结构参数与材料的物理性质直接相关。随着分子束外延等材料生长技术的发展,新型的半导体材料如超晶格已经广泛地吸引了人们的注意。δ掺杂是近年来国际上出现的又一种新的结构,它可减少二维电子(空穴)气系统中的杂质离子散射,在科学和技术应用上都有重要意义。 δ掺杂样品中的杂质离子仅分布在几个纳米的尺度内,一些常用的结构成分分析方法难以进行检测。如Rutherford背散射(RBS)、中能离子散射(MEIS)只对浓度原子百分比大于10^(-2)%杂质敏感,而二次离子质谱(SIMS)的空间分辨一般为3μm左右。X射线是检测物质结构的有效方法,常规光源的强度不足以测量到足够的衍射振荡来分析δ掺杂的结构。同步辐射光源是高亮度的X射线光源,它已成功地用来测量δ掺杂的结构。 北京同步辐射装置漫散射实验站所用光源来自4W1C光束线,X光经一块压弯的三角形硅单晶单色化并水平聚焦后,再由一块全反射柱面镜进行垂直聚焦和滤去高次谐波,在样品处得到光斑大小为0.3mm×0.5mm、垂直发散度为0.1m rad的单色光。本实验中,三角弯晶为Si(111),所得的单色光波长为0.154nm。衍射平面在垂直方向,以利用同步光的水平偏振和垂直发散度小的特点。
修立松姜晓明郑文莉卢学坤蒋最敏张翔九王迅
关键词:X射线衍射Δ掺杂
d掺杂Si半导体微结构的同步辐射研究
姜晓明蒋最敏贾全杰郑文莉修立松马宏骥胡冬枝朱海军王洲光
利用同步辐射X射线反射实验技术,测量、研究了Sb原子和Er原子在分子束外延过程中的偏析行为。结果表明在较低温度下Sb原子仍有较强的表面偏析,利用杂质原子高的覆盖度将引起表面结构的变化、从而引起表面偏析能的改变解释了这一表...
关键词:
北京同步辐射装置X射线漫散射实验站及准周期非晶多层膜的X射线非镜面散射研究被引量:3
1996年
讨论了北京同步辐射装置的4W1C光束线和X射线漫散射实验站的技术特点.利用在漫散射实验站上获得的能量分辨率为4.4×10-4、光斑大小为0.5mm(水平)×0.3mm(垂直)的聚焦单色X射线光束,研究了准周期非晶多层膜的X射线漫散射──非镜面散射.实验结果表明,准周期多层膜的漫散射强度分布在倒空间中与表面平行的条纹上并形成散射强度的调制.对散射强度调制进行的模拟计算得到相当满意的结果.
姜晓明景毓辉郑文莉修立松武家扬刘功淳
关键词:X射线漫散射准周期多层膜强度调制
纳米厚度非透明介质薄膜的测量被引量:5
1994年
本文叙述了用椭偏仪多次入射选择最佳法测量纳米厚度非透明薄膜原理及方法,给出了由此方法测量得到的数据和用迭代法(下降法)计算得到的膜厚结果,并与台阶仪测试结果进行了比较。
缪建伟崔明启唐鄂生修立松
关键词:椭偏仪介质薄膜
MOCVD制备PbTiO_3铁电薄膜的研究被引量:4
1997年
由于在动态随机存储器、传感器和探测器等器件中的应用,使铁电薄膜的制备成为研究热点。本文报道了利用低压MOCVD工艺分别在(001)取向SrTiO3和重掺杂硅单晶衬底上制备PbTiO3铁电薄膜的工作。通过X射线衍射、AFM和Raman光谱对薄膜的微结构进行分析,在SrTiO3衬底上获得了单畴、多畴等几种畴结构组态,从实验上证实了铁电薄膜中畴的形成与薄膜的厚度有关;得到了铁电薄膜邻位面台阶生长的实验证据;对薄膜的晶格畸变,晶格振动及自发极化的测量发现,PbTiO3薄膜具有明显的“铁电弱化”现象。对上述现象。
陈延峰孙力于涛闵乃本姜晓明修立松
关键词:铁电薄膜铁电体MOCVD
高压下LiB_3O_5晶体-非晶体相变的研究被引量:1
1998年
采用X射线粉末衍射和同步辐射能散X射线衍射技术,对LiB3O5(LBO)晶体进行了压致非晶化相变的研究,压力达45.1GPa。实验结果表明,LBO存在两个中间相变,压力分别为5GPa和15.8GPa。而当压力增加到25~31.6GPa时,LBO出现非晶态,这个非晶化相变是不可逆的。
陈良辰王莉君顾惠成顾惠成周镭李凤英修立松
关键词:X射线衍射
掠入射X射线衍射实验技术
姜晓明修立松
关键词:X射线衍射仪粉末衍射法
北京同步辐射装置X射线漫散射实验站的控制和数据获取系统
采用386PC机通过多功能并行板和RS232串行口.实现北京同步辐射装置X射线漫散射实验站五圆衍射仪的控制;数据获取系统则以ORTEC 974定标器为主来实现.并为整个系统提供时标.这一控制和数据获取系统比原来的系统大大...
姜晓明何玮周镭修立松郑文莉高振华洪蓉李大仕
关键词:计算机控制数据获取
在BSRF上进行的高压X射线衍射研究
修立松赵越超
关键词:X射线衍射高压试验X射线源
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