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李学飞

作品数：12 被引量：0H指数：0
供职机构：南京大学更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 11篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 9篇介质
  • 9篇衬底
  • 8篇介质薄膜
  • 6篇原子层沉积
  • 3篇电学性能
  • 3篇栅介质
  • 3篇氢溴酸
  • 3篇MOS器件
  • 2篇电容
  • 2篇叠层
  • 2篇叠层结构
  • 2篇堆栈
  • 2篇堆栈结构
  • 2篇氧化铪
  • 2篇栅介质薄膜
  • 2篇栈结构
  • 2篇砷化镓
  • 2篇砷化镓衬底
  • 2篇水溶
  • 2篇水溶液

机构

  • 12篇南京大学

作者

  • 12篇李学飞
  • 11篇吴迪
  • 11篇李爱东
  • 5篇付盈盈
  • 5篇刘晓杰
  • 4篇曹燕强
  • 4篇李辉
  • 2篇章闻奇
  • 2篇翟海法
  • 2篇龚佑品

年份

  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 5篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
共 12 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种清洗钝化GaAs衬底表面的方法
本发明公开了一种清洗钝化GaAs衬底表面的方法，首先将GaAs衬底用有机溶液处理，除去表面的油污；然后用氢溴酸溶液浸泡GaAs衬底，除去表面的氧化层；接着放入加热到50℃的(NH<Sub>4</Sub>)<Sub>2</...
付盈盈李爱东曹燕强李学飞吴迪
文献传递
一种在锗衬底上低温原子层沉积Hf基栅介质薄膜的方法
本发明公开了一种在锗衬底上低温原子层沉积Hf基栅介质薄膜的方法，首先对锗衬底进行清洗、钝化；将钝化好的衬底放入ALD反应室中，温度为140-170℃，以三甲基铝Al(CH<Sub>3</Sub>)<Sub>3</Sub>...
李学飞李爱东章闻奇刘晓杰付盈盈吴迪
文献传递
一种清洗钝化Ge衬底表面的方法
本发明公开了一种清洗钝化Ge衬底表面的方法，首先将锗衬底在丙酮、甲醇中依次超声清洗，然后将锗衬底移到5-20％(重量比)的氢溴酸水溶液中，室温下清洗3-15分钟，接着用高纯氮气吹干，再放入15-50％(重量比)的硫化铵水...
李学飞李爱东龚佑品翟海法李辉吴迪
文献传递
ALD制备GaAs基MOS器件中的原位表面钝化方法
本发明公开了一种ALD制备GaAs基MOS器件中的原位表面钝化方法，首先清洗GaAs衬底，之后在HCl水溶液中浸泡3~5分钟，接着在(NH<Sub>4</Sub>)<Sub>2</Sub>S水溶液中浸泡10~40分钟，用...
李学飞李爱东曹燕强吴迪
一种超高密度单层纳米晶存储器的制备方法
本发明公开了一种超高密度单层纳米晶存储器的制备方法，先用ALD方法在干净的半导体衬底上生长一层3~10nm厚的高介电隧穿层，形成高介电薄膜；接着将3～8nm粒径可控、单分散好的金属纳米颗粒浸渍涂覆或旋涂在高介电薄膜上，自...
刘晓杰李爱东高墨昀李学飞吴迪
文献传递
一种清洗钝化Ge衬底表面的方法
本发明公开了一种清洗钝化Ge衬底表面的方法，首先将锗衬底在丙酮、甲醇中依次超声清洗，然后将锗衬底移到5-20％(重量比)的氢溴酸水溶液中，室温下清洗3-15分钟，接着用高纯氮气吹干，再放入15-50％(重量比)的硫化铵水...
李学飞李爱东龚佑品翟海法李辉吴迪
调控Ge衬底与TixAlyO薄膜间能带补偿的方法
本发明公开了一种调控Ge衬底与TixAlyO薄膜间能带补偿的方法，首先对锗衬底进行清洗，吹干。接着放入ALD反应室中，沉积以Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>为开始层，交替Al<Sub>2</Sub>...
李学飞李爱东付盈盈刘晓杰李辉吴迪
文献传递
ALD制备GaAs基MOS器件中的原位表面钝化方法
本发明公开了一种ALD制备GaAs基MOS器件中的原位表面钝化方法，首先清洗GaAs衬底，之后在HCl水溶液中浸泡3～5分钟，接着在(NH<Sub>4</Sub>)<Sub>2</Sub>S水溶液中浸泡10～40分钟，用...
李学飞李爱东曹燕强吴迪
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等效氧化物厚度为亚纳米的Ge基MOS器件的制备方法
本发明公开了一种等效氧化物厚度为亚纳米的Ge基MOS器件的制备方法，1）对Ge衬底进行清洗；2）进行S钝化，3）在Ge衬底表面原位沉积Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>薄膜；4）沉积HfO<Sub>2...
李爱东李学飞曹燕强吴迪
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原子层沉积栅介质材料与Ⅲ-Ⅴ族/Ge半导体的界面结构及其电学性能研究
几十年来，传统的Si基CMOS器件的尺寸一直遵循摩尔定律持续缩小。随着器件集成度和工作频率的不断提高，单位面积芯片上的功耗也不断增大，成为阻碍摩尔定律延续的一个瓶颈。功耗正比于工作电压的平方，降低工作电压可以有效地减小功...
李学飞
关键词：电学性能原子层沉积
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共2页<12>
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