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杨春章

作品数:29 被引量:36H指数:4
供职机构:昆明物理研究所更多>>
发文基金:国家科技重大专项中国人民解放军总装备部预研基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术化学工程建筑科学更多>>

文献类型

  • 18篇期刊文章
  • 6篇专利
  • 5篇会议论文

领域

  • 23篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇建筑科学

主题

  • 17篇分子束
  • 17篇分子束外延
  • 11篇碲镉汞
  • 9篇红外
  • 8篇探测器
  • 6篇碲镉汞薄膜
  • 6篇红外探测
  • 6篇红外探测器
  • 4篇
  • 4篇MBE
  • 4篇衬底
  • 3篇中波
  • 2篇挡板
  • 2篇势垒
  • 2篇探测器材料
  • 2篇退火
  • 2篇位错
  • 2篇量子阱红外探...
  • 2篇焦平面
  • 2篇焦平面探测器

机构

  • 29篇昆明物理研究...
  • 2篇辽阳供电公司
  • 1篇中国人民解放...

作者

  • 29篇李艳辉
  • 29篇杨春章
  • 17篇孔金丞
  • 15篇李东升
  • 14篇覃钢
  • 12篇赵俊
  • 11篇谭英
  • 8篇姬荣斌
  • 7篇周旭昌
  • 6篇高丽华
  • 6篇齐航
  • 5篇王善力
  • 5篇苏栓
  • 3篇杨玉林
  • 3篇韩福忠
  • 3篇王晓璇
  • 3篇赵丽
  • 2篇赵鹏
  • 2篇王羽
  • 2篇邢一山

传媒

  • 16篇红外技术
  • 3篇第十一届全国...
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇第十届全国分...

年份

  • 1篇2024
  • 4篇2023
  • 2篇2022
  • 3篇2021
  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 4篇2018
  • 1篇2017
  • 4篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2011
  • 1篇2009
  • 1篇2008
29 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Ge(211)衬底上分子束外延CdTe薄膜被引量:1
2011年
采用分子束外延在3英寸Ge(211)衬底上生长了10μm厚的CdTe(211)B薄膜。CdTe表面镜面光亮,3英寸范围厚度平均值9.72μm,偏差0.3μm;薄膜晶体质量通过X射线双晶迴摆曲线进行评价,FWHM平均值80.23 arcsec,偏差3.03 arcsec;EPD平均值为4.5×106 cm-2。通过研究CdTe薄膜厚度与FWHM和EPD的关系,得到CdTe的理想厚度为8~9μm。
李艳辉杨春章苏栓谭英高丽华赵俊
关键词:CDTE薄膜
Ge(211)异质衬底分子束外延HgCdTe薄膜材料及器件性能
采用RIBER Epineat分子束外延系统,采用Ge(211)衬底经过表面处理,在生长腔体进行高温脱氧,As束流保护下进行表面钝化,在250℃采用表面增强(MEE)法生长50周期Zn/Te交替结构,固定生长面为(211...
李艳辉杨春章覃钢杨晋李东升孔金丞
关键词:半导体薄膜碲镉汞分子束外延生长
量子阱红外探测器材料技术研究
周旭昌谭英杨春章李艳辉苏栓齐航高丽华李东升
关键词:量子阱红外探测器分子束外延
异质衬底外延碲镉汞薄膜位错抑制技术进展
2022年
分子束外延碲镉汞技术是制备第三代红外焦平面探测器的重要手段,基于异质衬底的碲镉汞材料具有尺寸大、成本低、与常规半导体设备兼容等优点,是目前低成本高性能红外探测器发展中的研究重点。对异质衬底上碲镉汞薄膜位错密度随厚度的变化规律进行了建模计算,结果显示ρ~1/h 模型与实验结果吻合度好,异质衬底上原生碲镉汞薄膜受位错反应半径制约,其位错密度无法降低至 5×10^(5)cm^(-2)以下,难以满足长波、甚长波器件的应用需求。为了有效降低异质外延的碲镉汞材料位错密度,近年来出现了循环退火、位错阻挡和台面位错吸除等位错抑制技术,本文介绍了各技术的原理及进展,分析了后续发展趋势及重点。循环退火和位错阻挡技术突破难度大,发展潜力小,难以将碲镉汞位错密度控制在 5×10cm以内。台面位错吸除技术目前已经显示出了巨大的发展潜力和价值,后续与芯片工艺融合后,有望大幅促进低成本长波、中长波、甚长波器件的发展。
杨晋李艳辉杨春章覃钢李俊斌雷文孔金丞赵俊姬荣斌
关键词:碲镉汞
分子束外延生长Hg1-_xCd_xTe材料原位退火研究
2009年
对分子束外延(MBE)生长了Hg1-xCdxTe薄膜材料进行原位退火研究。显微镜观察可知,原位退火可以得到光滑的材料表面,并可以降低材料的腐蚀坑密度(EPD)。霍尔测试结果表明,通过调整退火温度和汞束流可以明显地改善Hg1-xCdxTe材料的电学性能。研究表明Hg1-xCdxTe材料的原位退火技术在改善材料的微观结构和电学性能方面有着重要的意义。
苏栓李艳辉周旭昌杨春章谭英高丽华李全保
关键词:HG1-XCDXTE
分子束外延锗基碲镉汞薄膜及光电性能研究
分子束外延锗基碲镉汞薄膜具有大面积、高均匀、低成本、表面质量高等特点,易于实现双/多色探测,是发展新一代红外焦平面探测器的重要选择.本文报道了分子束外延锗基短波、中波和短波/中波双色碲镉汞薄膜材料以及320×2...
赵俊李艳辉杨春章谭英王晓璇韩福忠姬荣斌孔金丞
关键词:分子束外延光电性能
RHEED优化MBE生长中波MCT薄膜工艺被引量:1
2008年
在分子束外延(MBE)中波HgCdTe薄膜过程中,利用反射式高能电子衍射(RHEED)对衬底表面脱氧和生长过程中生长参数对材料特性的影响进行研究。通过观察RHEED图样的变化,确定了衬底的脱氧状况,获得了生长中衬底温度等生长参数变化引起材料结晶的变化规律,为MBE生长HgCdTe薄膜实验的可控生长提供有效帮助;生长结束后,通过SEM、Hall等手段对HgCdTe的表面缺陷、电学参数等性能进行了初步研究,证明实验说成长的材料基本满足器件制备的要求。
曲海成李艳辉苏栓杨春章谭英高丽华王善力
关键词:分子束外延HGCDTE
二类超晶格红外焦平面探测器的研究进展被引量:3
2021年
近几年,二类超晶格红外探测器在材料生长、器件结构设计、器件制备上经历了快速的发展,使得二类超晶格成为除碲镉汞外最受关注的红外探测器材料。本文简要介绍了二类超晶格的优势,总结了国际上二类超晶格红外探测器研究进展,回顾了二类超晶格红外探测器的技术发展历程,并分析了国内二类超晶格材料与器件中存在的技术问题。
李俊斌李东升吴圣娟周旭昌李艳辉杨春章杨雯蒋志常超任洋
关键词:红外探测器焦平面
一种双色碲镉汞红外光电探测器及其制备方法
本发明公开了一种双色碲镉汞红外光电探测器及其制备方法,该双色探测器基于单极型势垒结构,其结构包括CdZnTe衬底、沉积于CdZnTe衬底上的外延结构、钝化层、金属电极,外延结构从下至上依次为宽带隙n型Hg<Sub>1‑x...
任洋覃钢孔金丞李艳辉杨春章赵鹏
碲锌镉衬底上中长双色红外碲镉汞分子束外延生长研究被引量:3
2018年
报道了使用分子束外延(Molecular beam epitaxy,MBE)技术,在(211)B碲镉汞(CdZnTe,CZT)衬底上生长中长波双色碲镉汞(HgCdTe,MCT)薄膜材料,生长温度为180℃,研究了双色碲镉汞薄膜材料衬底脱氧技术、分子束外延薄膜生长温度与缓冲层生长等关键技术,实现了中长波双色碲镉汞薄膜生长,外延薄膜采用相差显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、二次离子质谱仪(SIMS)及X射线衍射仪(XRD)对薄膜的表面缺陷、厚度、组分及其均匀性、薄膜纵向组分以及晶体质量进行了表征,表面缺陷数量低于600 cm^(-2),组分(300 K测试)和厚度均匀性分别为(35)x≤0.001、(35)d≤0.9μm,X-Ray双晶衍射摇摆曲线FWHM=65 arcsec,得到了质量较高的中长波双色碲镉汞薄膜材料。
杨春章覃钢李艳辉李达孔金丞
关键词:碲锌镉碲镉汞分子束外延
共3页<123>
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