鲁向群
- 作品数：10 被引量：0H指数：0
- 供职机构：中国科学院更多>>
- 相关领域：一般工业技术电气工程金属学及工艺更多>>
- 离子束溅射镀膜机
- 本实用新型涉及一种离子束溅射镀膜装置。由镀膜室、离子枪、旋转靶、衬底夹持架等组成,镀膜室为圆筒形,离子枪位于镀膜室顶部,镀膜室中部倾斜45°角安装旋转把,离子枪引出栅轴心线与旋转把一面靶材中心点位于同一垂直轴线上,镀膜室...
- 李求恕王文魁郭东民冯彬曾志群阎佐健刘军戚晖潘福全鲁向群吕祺
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- 一种磁控溅射靶
- 本发明公开一种可以溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶，由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无...
- 冯彬鲁向群佟辉刘大为周颖刘丽华
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- 一种磁控与离子束复合溅射沉积系统
- 本发明公开一种磁控与离子束复合溅射沉积系统，由磁控室、离子束室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。磁控室和离子束室...
- 郭东民佟辉冯彬刘大为鲁向群金振奎刘丽华
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- 双室磁控与离子束复合溅射沉积系统
- 本实用新型公开一种双室磁控与离子束复合溅射沉积系统，由磁控室、离子束室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。磁控室和...
- 郭东民佟辉冯彬刘大为鲁向群金振奎刘丽华
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- 一种磁控溅射靶
- 本发明公开一种可以溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶，由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无...
- 冯彬鲁向群佟辉刘大为周颖刘丽华
- 平面显示器连续镀膜装置
- 本实用新型涉及一种平面显示器连续镀膜装置。由五个长方形箱体喷淋烘干室、进样室、溅射室、翻转室、电子束蒸发室及抽气机构等组成,其中喷淋烘干室为非真空室,进样室、溅射室、翻转室和电子束蒸发室为线列式连续镀膜的真空室,手动矩形...
- 李求恕郭东民冯彬刘军阎佐健鲁向群戚晖吕祺曾志群潘福全郭宝英石长友
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- 超高真空多功能磁控溅射装置
- 本实用新型涉及一种超高真空多功能磁控溅射装置。由主溅射室、进样室、磁力传动机构、超高真空抽气装置和高真空抽气分子泵组成,其中主溅射室为梨形结构,由圆柱形真空室配装一“梨把”,“梨把”下面加装一套超高真空抽气装置,进样室为...
- 李求恕冯彬阎佐健鲁向群吕祺金振奎刘大为刘军戚晖孙荣昌魏吉萍曾志群潘福全郭宝英石长友谭亮周景玉
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- 用于溅射磁性材料的磁控靶
- 本实用新型公开一种用于溅射磁性材料的磁控靶，由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无氧铜，中心放内磁...
- 冯彬鲁向群佟辉刘大为周颖刘丽华
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- 一种磁控与离子束复合溅射沉积系统
- 本发明公开一种磁控与离子束复合溅射沉积系统，由磁控室、离子束室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。磁控室和离子束室...
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- 硬碳膜沉积装置
- 本实用新型涉及一种硬碳膜沉积装置。由真空室、泵抽机组等组成,其真空室具有封帽,安装在机架上,与泵抽机组相连,在其封帽上设有放气阀和进气截止阀,上电极在真空室里接地,在真空室底部安装一可水冷的、接RF射频功率电源、由电机驱...
- 李求恕冯彬阎佐健鲁向群孙荣昌金振奎曾志群潘福全郭宝英石长友谭亮
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