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王文华
作品数:
1
被引量:12
H指数:1
供职机构:
北京大学信息科学技术学院微米纳米加工技术国家重点实验室
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发文基金:
国家自然科学基金
国家重点基础研究发展计划
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相关领域:
电子电信
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合作作者
鲁庆
北京大学信息科学技术学院微米纳...
黄如
北京大学信息科学技术学院微米纳...
安霞
北京大学信息科学技术学院微米纳...
王思浩
长春理工大学
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作者
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王思浩
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安霞
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王文华
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黄如
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鲁庆
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物理学报
年份
1篇
2010
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超陡倒掺杂分布对超深亚微米金属-氧化物-半导体器件总剂量辐照特性的改善
被引量:12
2010年
分析了沟道中超陡倒掺杂和均匀掺杂两种情况下超深亚微米MOS器件的总剂量辐照特性,主要比较了两种掺杂分布的器件在辐照情况下的泄漏电流与阈值电压的退化特性.结果表明,在辐照剂量<500krad情况下,超陡倒掺杂器件的泄漏电流比均匀掺杂器件的泄漏电流低2—3个量级;而在辐照剂量>500krad情况下,由于器件俘获的空穴量饱和,超陡倒掺杂的改善没有那么明显.但超陡倒掺杂的阈值电压漂移量比均匀掺杂的情况小约40mV.超陡倒掺杂有利于改善器件的总剂量辐照特性.文中还给出了用于改善器件辐照特性的超陡倒掺杂分布的优化设计,为超深亚微米器件抗辐照加固提供了依据.
王思浩
鲁庆
王文华
安霞
黄如
关键词:
总剂量效应
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