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訾威

作品数:1 被引量:1H指数:1
供职机构:中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇英文
  • 1篇微晶硅
  • 1篇微晶硅薄膜
  • 1篇蒙特卡罗
  • 1篇蒙特卡罗方法
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇标度理论

机构

  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 1篇刘丰珍
  • 1篇周玉琴
  • 1篇朱美芳
  • 1篇訾威

传媒

  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2008
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
用标度理论和蒙特卡洛方法研究微晶硅薄膜的生长机制(英文)被引量:1
2008年
使用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜(沉积速度为1.2nm/s),通过原子力显微镜研究了薄膜前期生长的粗糙化过程.按照标度理论获得微晶硅薄膜的生长因子为β≈0.67,粗糙度因子为α≈0.80,动力学因子为1/z=0.40.这些标度指数不能用一般的生长模型来解释.通过蒙特卡罗模拟给出与实验一致的结果.模拟表明,入射流方向、生长基元的类型和浓度、生长基元的粘滞、再发射和影蔽过程都对微晶硅薄膜的表面形貌有比较重要的影响.
訾威周玉琴刘丰珍朱美芳
关键词:微晶硅薄膜标度理论蒙特卡罗方法
共1页<1>
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