马斌
- 作品数：6 被引量：21H指数：3
- 供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
- 相关领域：一般工业技术电气工程理学化学工程更多>>
- Fe-Ta-N纳米软磁薄膜的结构和磁性被引量：4
- 1999年
- 用磁控溅射法在Ａｒ＋Ｎ２混合气氛中制备了性能优异的具有纳米结构的Ｆｅ－Ｔａ－Ｎ软磁薄膜。氮原子以间隙原子的形式进入纳米形态的α－Ｆｅ的晶格中，并引起了相应的晶格形变。随氮分压（ｐＮ２）的提高，α－Ｆｅ晶粒的尺寸迅速减小，在交换耦合作用下，表现出优异的软磁性能，氮分压较高时（ｐＮ２７％），Ｔａ原子和Ｎ原子将形成Ｔａ３Ｎ５化合物相，导致薄膜软磁性能的相应降低。
- 马斌魏福林郑代顺杨正余晋岳
- 关键词：软磁薄膜纳米晶粒
- 纳米晶Fe-Ta-N薄膜的形态、结构与磁性
- 魏福林吴东平郑代顺马斌杨正韩宝善余晋岳
- 关键词：纳米晶磁性
- 文献传递网络资源链接
- 超高密度磁存储的展望被引量：12
- 2001年
- 磁性存储是最常用的海量存储技术，其记录密度越来越高，发展也越来越快。本文通过对信息记录、读出和存储三个过程的分析，对比了硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点，指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密记录的方向，光辅助磁记录是很有希望的记录技术。同时，还指出量子磁盘技术是未来极高密记录的方向。
- 马斌沈德芳狄国庆杨正魏福林
- 关键词：垂直磁记录磁光记录
- 制备条件对Fe-Ta-N薄膜的结构和软磁性能的影响被引量：1
- 2001年
- 应用射频磁控溅射法制备了 Fe- Ta- N薄膜 ,系统地研究了制备工艺对 Fe- Ta- N薄膜结构和软磁性能的影响。首先 ,制备了不同钽含量的薄膜 ,发现 (Fe89.5Ta10 .5) - N薄膜具有很好的软磁性能 ,氮分压 P(N2 ) =5时 ,矫顽力获得最小值 ,Hc=1 4A/m。此时 ,样品呈现纳米晶结构 ,晶粒尺寸 D≤ 1 0 - 8m。并且 ,钽掺杂能抑制铁氮化合物的生成 ,使薄膜在高氮分压范围内具有高的饱和磁化强度 ,Ms=1 2 4 2 k A/m。其次 ,考察了热处理对 (Fe89.5Ta10 .5) - N薄膜结构和磁性能的影响。 P(N2 ) =5时 ,沉积态薄膜为非晶结构 ,矫顽力很大 ;在热处理过程中 ,薄膜逐渐晶化 ,40 0℃热处理后 ,晶化度达到 40 % ,形成纳米晶结构 ,矫顽力迅速减小。最后 ,比较了不同溅射功率和总气压对 (Fe89.5Ta10 .5) - N薄膜结构和磁性能的影响 ,发现薄膜可在较大的溅射功率和总气压范围内保持优异的软磁性能 。
- 马斌沈德芳狄国庆杨正魏福林
- 关键词：磁头材料软磁性能
- 标准音频信号磁带快速复制磁头的研制
- 1998年
- 分析了标准音频信号磁带快速复制磁头的磁芯结构特点，并根据磁头的漏磁通分布，给出了磁头的等效磁路。在对磁头磁阻及相关参数如磁头电感量Ｌ，磁头记录电流Ｉｒ等的计算中，考虑了磁芯材料磁导率μ的复数特性，得到了与实验一致的结果。
- 马斌徐海魏福林杨正余晋岳
- 关键词：磁带磁阻磁头
- 磁记录介质的表面形貌和磁结构的观测被引量：4
- 2002年
- 使用磁力显微镜和偏光显微镜观测了硬磁盘、磁光盘、录像带、录音带和磁卡的表面形貌和磁结构,揭示了磁记录介质的信息存储状态。对于不同的记录模式,介质的磁结构截然不同,并且表面平整度也有差别,记录密度越高,介质表面越平整。
- 马斌韩立狄国庆沈德芳
- 关键词：磁记录介质磁畴磁结构
