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谢常青

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇国内会议论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇掩模
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇电路
  • 1篇掩模制作
  • 1篇射线
  • 1篇集成电路
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻掩模
  • 1篇薄膜应力
  • 1篇SIN
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光刻
  • 1篇X射线光刻掩...
  • 1篇铬
  • 1篇LPCVD

机构

  • 2篇中国科学院

作者

  • 2篇叶甜春
  • 2篇陈大鹏
  • 2篇谢常青
  • 1篇陆晶
  • 1篇陈宝钦
  • 1篇赵玲利
  • 1篇刘明
  • 1篇韩敬东
  • 1篇康晓辉

传媒

  • 1篇第十三届全国...
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 1篇2003
  • 1篇1999
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
无铬相位光刻和有铬的常规混合移相掩模制作70nm光刻栅图形的模拟研究
光刻技术一直是集成电路工业发展中的重要推动力,移相掩模是提高光刻分辨率的重要分辨率增强技术.本文对无铬相位光刻和有铬的常规混合移相掩模进行了初步研究,采用PROLITH8.0光学光刻模拟软件,在ArF步进扫描光刻机、Qu...
谢常青刘明陈宝钦陈大鹏康晓辉陆晶叶甜春
关键词：集成电路
文献传递
氮化硅X射线掩摸研制
Ｘ射线光刻掩摸是由一片支撑薄膜和附着在薄膜上的Ｘ射线吸收体的图形组成，因此如何通过控制ＳｉＮ〈，ｘ〉薄膜中的应力获得大面积的薄膜材料，就成了ＳｉＮ〈，Ｘ〉薄膜制备中的主要问题。该文报到了采用ＬＰＣＶＤ方法在高温下制备富硅...
陈大鹏叶甜春赵玲利韩敬东谢常青
关键词：X射线光刻掩模LPCVD薄膜应力
文献传递网络资源链接
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