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康晓辉

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇国内会议论文

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电路
  • 1篇掩模
  • 1篇掩模制作
  • 1篇集成电路
  • 1篇铬

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇叶甜春
  • 1篇陆晶
  • 1篇陈宝钦
  • 1篇陈大鹏
  • 1篇刘明
  • 1篇谢常青
  • 1篇康晓辉

传媒

  • 1篇第十三届全国...

年份

  • 1篇2003
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
无铬相位光刻和有铬的常规混合移相掩模制作70nm光刻栅图形的模拟研究
光刻技术一直是集成电路工业发展中的重要推动力,移相掩模是提高光刻分辨率的重要分辨率增强技术.本文对无铬相位光刻和有铬的常规混合移相掩模进行了初步研究,采用PROLITH8.0光学光刻模拟软件,在ArF步进扫描光刻机、Qu...
谢常青刘明陈宝钦陈大鹏康晓辉陆晶叶甜春
关键词：集成电路
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