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马磊
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桂林电子科技大学
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相关领域:
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李跃
桂林电子科技大学
李海鸥
桂林电子科技大学
李琦
桂林电子科技大学
李思敏
桂林电子科技大学
首照宇
桂林电子科技大学
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一种GaAs衬底MHEMT栅凹槽腐蚀监控方法
本发明公开一种GaAs衬底MHEMT栅凹槽腐蚀监控方法,其采用电子束光刻胶做掩膜,对样品进行不同栅长阵列曝光,显影出需要腐蚀的栅凹槽条,将样品分裂成6个小样品分别对其不同时间的栅凹槽腐蚀实验,利用原子力显微镜测试腐蚀栅凹...
李海鸥
吉宪
李琦
李跃
黄伟
马磊
首照宇
吴笑峰
李思敏
一种复合沟道MHEMT微波振荡器
李海鸥
吉宪
李琦
李跃
黄伟
马磊
首照宇
吴笑峰
李思敏
该发明涉及微波通信器件领域,具体涉及一种复合沟道GaAs 衬底变组分高电子迁移率晶体管(GaAs mHEMT)微波振荡器的制备方法。该发明所要解决的技术问题是提供一种复合沟道GaAs 衬底变组分高电子迁移率晶体管微波振荡...
关键词:
关键词:
微波振荡器
一种III‑V族半导体MOSHEMT器件及其制备方法
本发明公开一种III‑V族半导体MOSHEMT器件及其制备方法,其组分渐变缓冲层降低III‑V半导体之间晶格失配,减少位错引进的缺陷。同时该器件结构不仅降低MOS界面态密度,并且通过对外延材料采用高In组分In<Sub>...
李海鸥
马磊
李思敏
首照宇
李琦
王盛凯
陈永和
张法碧
肖功利
傅涛
李跃
常虎东
孙兵
刘洪刚
文献传递
基于低功耗增强型In_(0.25)Ga_(0.75)As沟道MOSFET器件
2018年
为了实现低功耗的应用,设计了一种增强型InGaAs沟道MOSFET器件,通过改变InGaAs沟道中的In组分和器件掺杂层中的P型掺杂浓度,对器件的Ⅰ-Ⅴ特性进行了模拟仿真和分析。实验结果表明:8μm栅长的增强型InGaAs沟道MOSFET器件的关态电流小于1×10^(-8) mA/mm,器件的开关比达到9个量级,说明了降低InGaAs沟道的In组分和提高InAlAs掺杂层中的P型掺杂浓度能够降低器件的关态电流,增大器件电流开关比,从而实现了低功耗的器件性能。
李海鸥
李跃
李跃
李琦
肖功利
马磊
丁志华
关键词:
INGAAS
MOSFET
一种复合沟道MHEMT微波振荡器及其制备方法
本发明公开一种复合沟道MHEMT微波振荡器及其制备方法,器件采用复合沟道结构,离子注入与湿法腐蚀相结合的台面隔离,Ni/AuGe/Ni/Au的源漏金属化系统形成欧姆接触,利用两次自对准电子曝光束,一次显影的三层胶工艺制造...
李海鸥
吉宪
李琦
李跃
黄伟
马磊
首照宇
吴笑峰
李思敏
一种复合沟道MHEMT微波振荡器
本实用新型公开一种复合沟道MHEMT微波振荡器,该微波振荡器的有源固体器件由砷化镓衬底的变组分高电子迁移率晶体管构成;所述砷化镓衬底的变组分高电子迁移率晶体管自下而上依次由衬底层、渐变缓冲层、缓存层、第一沟道层、第二沟道...
李海鸥
吉宪
李琦
李跃
黄伟
马磊
首照宇
吴笑峰
李思敏
文献传递
一种III-V族半导体MOSHEMT器件及其制备方法
本发明公开一种III‑V族半导体MOSHEMT器件及其制备方法,其组分渐变缓冲层降低III‑V半导体之间晶格失配,减少位错引进的缺陷。同时该器件结构不仅降低MOS界面态密度,并且通过对外延材料采用高In组分In<Sub>...
李海鸥
马磊
李思敏
首照宇
李琦
王盛凯
陈永和
张法碧
肖功利
傅涛
李跃
常虎东
孙兵
刘洪刚
一种III‑V族环栅场效应晶体管
本实用新型公开一种III‑V族环栅场效应晶体管,由单晶衬底、隔离层、键合金属层、第一栅金属层、第一栅介质层、第一界面控制层、III‑V族半导体沟道层、第二界面控制层、III‑V族半导体源漏层、界面控制层侧墙、第二栅介质层...
李海鸥
李跃
首照宇
李思敏
李琦
陈永和
谢仕锋
马磊
张法碧
傅涛
翟江辉
文献传递
一种复合沟道MHEMT微波振荡器及其制备方法
本发明公开一种复合沟道MHEMT微波振荡器及其制备方法,器件采用复合沟道结构,离子注入与湿法腐蚀相结合的台面隔离,Ni/AuGe/Ni/Au的源漏金属化系统形成欧姆接触,利用两次自对准电子曝光束,一次显影的三层胶工艺制造...
李海鸥
吉宪
李琦
李跃
黄伟
马磊
首照宇
吴笑峰
李思敏
文献传递
一种III‑V族环栅场效应晶体管及其制备方法
本发明公开一种III‑V族环栅场效应晶体管及其制备方法,由单晶衬底、隔离层、键合金属层、第一栅金属层、第一栅介质层、第一界面控制层、III‑V族半导体沟道层、第二界面控制层、III‑V族半导体源漏层、界面控制层侧墙、第二...
李海鸥
李跃
首照宇
李思敏
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陈永和
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