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曹崇龙

作品数:3 被引量:1H指数:1
供职机构:中国海洋大学信息科学与工程学院物理系更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 2篇场发射
  • 1篇第一性原理
  • 1篇第一性原理计...
  • 1篇电子结构
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇有限元
  • 1篇子结构
  • 1篇相稳定性
  • 1篇密度泛函
  • 1篇模拟计算
  • 1篇汇聚
  • 1篇泛函
  • 1篇N型
  • 1篇TAN
  • 1篇表面电子
  • 1篇表面电子结构
  • 1篇TIN

机构

  • 3篇中国海洋大学
  • 2篇中国科学院长...
  • 1篇静冈大学

作者

  • 3篇曹崇龙
  • 2篇宋翠华
  • 2篇宋航
  • 2篇元光
  • 1篇蒋红
  • 1篇三村秀典
  • 1篇蒋进京
  • 1篇屿拹秀隆

传媒

  • 1篇发光学报
  • 1篇液晶与显示

年份

  • 3篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
n型硅微尖场发射电子能谱的模拟计算被引量:1
2008年
结合金属的场发射电子能谱,模拟计算了场渗透对n型半导体硅微尖的场发射能谱的影响,并与n型硅微尖的场发射能谱实验结果进行了比较,讨论了模拟计算误差的来源。计算结果表明电场渗透现象导致硅的场发射能谱向低能方向偏移,表面电场越高,能谱的偏移量越大,其偏移程度可超过1eV。导致硅微尖的场发射能谱偏移的主要因素是半导体的场渗透现象。
元光曹崇龙宋翠华宋航屿拹秀隆三村秀典
关键词:场发射电子能谱
TiN表面电子结构及TaN各相稳定性的第一性原理计算
过渡族金属氮化物由于具有高强度、高硬度、耐高温,耐磨损以及良好的导电性、导热性等一系列优点,并可通过化学气相沉积/(CVD/),物理气相沉积/(PVD/)原子层沉积/(ALD/)等方法制备,与硅器件工艺兼容,可以被广泛的...
曹崇龙
关键词:TINTAN密度泛函
文献传递
具有汇聚特性的场发射电子源的模拟研究
2008年
提出了一种具有汇聚特性的新型场发射阴极结构,利用有限元方法模拟计算了此种阴极结构在不同参数条件下的电场分布、电子轨迹,考察了不同参数对电子汇聚效果的影响,给出了此种场发射阴极的栅极-阴极间距、栅极宽度、阳极电压、栅极电压等基本参数对汇聚效果的影响。模拟计算结果表明,电子束的汇聚程度随着栅极-阴极间距的增大而增大,随着栅极宽度的增大而减小;电子束的汇聚程度与阳极电压、栅极电压参数密切相关,并存在最优参数。
蒋进京宋翠华曹崇龙元光蒋红宋航
关键词:场发射有限元
共1页<1>
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