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吴昕蔚

作品数:2 被引量:6H指数:2
供职机构:上海交通大学材料科学与工程学院金属基复合材料国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇微结构
  • 2篇溅射
  • 2篇反应磁控溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇显微硬度
  • 1篇力学性能
  • 1篇晶化
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶晶化
  • 1篇TI
  • 1篇O
  • 1篇力学性
  • 1篇N

机构

  • 2篇上海交通大学

作者

  • 2篇李戈扬
  • 2篇吴昕蔚
  • 1篇李广泽
  • 1篇吴莹
  • 1篇黄碧龙
  • 1篇孔明

传媒

  • 1篇金属学报
  • 1篇表面技术

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能被引量:2
2007年
采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti(O,N)涂层,并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响。结果表明:随混合气氛中氧分压的提高,涂层中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但涂层始终保持与TiN相同的NaC l结构。少量氧的加入,可以改善涂层的结晶状态,涂层的硬度也相应升高,明显高于未含氧的TiN涂层的硬度。氧含量为8.0%(原子数分数)时,涂层硬度达到最大值26.2 GPa。进一步增加氧含量,涂层的硬度基本保持不变。
吴莹吴昕蔚李广泽李戈扬
关键词:反应磁控溅射微结构力学性能
反应磁控溅射TiN/AlON纳米多层膜的微结构与显微硬度被引量:4
2008年
采用Ti靶和Al_2O_3靶在Ar、N_2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法,制备了一系列不同AlON层厚度的TiN/AlON纳米多层膜,利用EDS、XRD、HRTEM和微力学探针研究了AlON的形成条件以及AlON调制层厚的改变对多层膜生长方式和显微硬度的影响.结果表明,在Ar、N_2混合气氛中对Al_2O_3进行溅射,N原子会部分取代Al_2O_3中的O原子,形成非晶态的AlON化合物.在TiN/AlON纳米多层膜中,由于TiN晶体层的模板效应,AlON层在厚度小于0.6 nm时被强制晶化并与TiN形成共格外延生长结构,多层膜显示出最高硬吱达40.5 GPa的超硬效应;进一步增加AlON的层厚,其生长模式由晶态向非晶态转变,破坏了多层膜的共格外延生长结构,多层膜的硬度随之降低.
黄碧龙吴昕蔚孔明李戈扬
关键词:非晶晶化显微硬度反应磁控溅射
共1页<1>
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